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龍圖騰網恭喜北京半導體專用設備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所)申請的專利一種清洗吹干裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113903690B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111180944.8，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權一種清洗吹干裝置是由薛書亮;張博;王文麗;趙永進;潘峰;陳威設計研發完成，并于2021-10-11向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種清洗吹干裝置在說明書摘要公布了：本發明提供了一種清洗吹干裝置，涉及晶圓工藝技術領域，包括基座和清洗機構，所述清洗機構設置在所述基座上，所述基座上設置有承載結構，所述承載結構用于安裝所述晶片，所述清洗機構包括多條用于對所述晶片進行清洗的噴液管路，所述清洗吹干裝置還包括吹干機構，所述吹干機構包括噴氣單元和調節結構。本申請是一種兼容性的清洗吹干裝置，利用多條噴液管路可完成多種清洗藥液對晶片的清洗處理工藝需求，并且可根據晶片形狀尺寸差異，吹干氣體的壓力能夠自由調節，噴氣單元的噴氣角度和噴氣位置均能調節，滿足各種晶片的吹干工藝處理需求。

本發明授權一種清洗吹干裝置在權利要求書中公布了：1.一種清洗吹干裝置，用于對各種晶片21進行清洗吹干工藝處理，包括基座2和清洗機構，所述清洗機構設置在所述基座2上，其特征在于：所述清洗機構包括多條用于對所述晶片21進行清洗的噴液管路9；還包括吹干機構；所述吹干機構包括噴氣單元和調節結構；所述噴氣單元通過調節結構與所述基座2連接；所述基座2上開設有開槽，所述噴氣單元設置于所述開槽內；所述調節結構包括角度調節件14；所述角度調節件14通過第二螺栓20與所述噴氣單元連接；所述調節結構還包括位置調節件，所述角度調節件14通過所述位置調節件與所述基座2連接；所述位置調節件包括橫向調節件17和縱向調節件15；所述縱向調節件15內設置有第二長槽孔，第二長槽孔內設置有第三螺栓18，所述第三螺栓18用于連接所述縱向調節件15和所述基座2；所述橫向調節件17內設置有第三長槽孔，第三長槽孔內設置有第四螺栓19，所述第四螺栓19用于連接所述縱向調節件15和所述橫向調節件17。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京半導體專用設備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所)，其通訊地址為：100176 北京市北京經濟技術開發區泰河三街1號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。