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恭喜津上智造智能科技江蘇有限公司王燕平獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜津上智造智能科技江蘇有限公司申請的專利水浸式超聲掃描顯微鏡晶圓檢測用承載裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119666994B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-03發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510189287.5,技術領域涉及:G01N29/06;該發明授權水浸式超聲掃描顯微鏡晶圓檢測用承載裝置是由王燕平;張學玲;李開明設計研發完成,并于2025-02-20向國家知識產權局提交的專利申請。

水浸式超聲掃描顯微鏡晶圓檢測用承載裝置在說明書摘要公布了:本申請涉及半導體檢測的技術領域,尤其是涉及水浸式超聲掃描顯微鏡晶圓檢測用承載裝置,包括承載臺,承載臺上開設有吸附流道,承載臺內設有負壓流道,承載臺上開設有與吸附流道相連通的負壓孔,承載臺上開設有容納槽,容納槽底部豎直固定有若干用于支撐晶圓的支撐臺,支撐臺的側壁與容納槽之間形成吸附流道,外環道內設有軟質的環形的密封圈,密封圈的厚度不小于支撐臺的高度,承載臺上周向均勻設有若干位于外環道內的變徑爪,變徑爪沿容納槽徑向滑動連接于外環道內,變徑爪與密封圈相連。由于密封圈的密封,支撐臺上表面與晶圓之間殘存的檢測液較小,兩者之間的吸附力較小,晶圓取下時不易破片,從而降低晶圓的破片率。

本發明授權水浸式超聲掃描顯微鏡晶圓檢測用承載裝置在權利要求書中公布了:1.水浸式超聲掃描顯微鏡晶圓檢測用承載裝置,包括可升降的承載臺1,所述承載臺1上開設有吸附流道2,所述承載臺1內設有負壓流道11,所述承載臺1上開設有與吸附流道2相連通的負壓孔12,所述負壓孔12與負壓流道11相連通,其特征在于:所述承載臺1上開設有用于容納晶圓的容納槽3,所述容納槽3底部豎直固定有若干用于支撐晶圓的支撐臺4,所述支撐臺4的側壁與容納槽3之間形成吸附流道2,所述吸附流道2包括直徑大于晶圓直徑的外環道21,所述外環道21內設有軟質的環形的密封圈5,所述密封圈5的厚度不小于支撐臺4的高度,所述承載臺1上周向均勻設有若干位于外環道21內的變徑爪6,所述變徑爪6沿容納槽3徑向滑動連接于外環道21內,所述變徑爪6與密封圈5相連。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人津上智造智能科技江蘇有限公司,其通訊地址為:214000 江蘇省無錫市新吳區環普路9號環普國際產業園6號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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