恭喜華芯程(杭州)科技有限公司張寧寧獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜華芯程(杭州)科技有限公司申請的專利掩膜成像方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119861537B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-03發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510326271.4，技術(shù)領域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)掩膜成像方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設備是由張寧寧;林云設計研發(fā)完成，并于2025-03-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本掩膜成像方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設備在說明書摘要公布了：本申請公開了一種掩膜成像方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設備，其中，該掩膜成像方法包括獲取掩膜的幾何形狀和特征信息，掩膜包括至少兩層介質(zhì)；基于特征信息，使用傳輸矩陣法計算每層介質(zhì)的傳輸矩陣，以得到掩膜的總傳輸矩陣；基于總傳輸矩陣對初始入射場進行修正，得到目標入射場；根據(jù)目標入射場，計算掩膜每個點的衍射近場強度；根據(jù)衍射近場強度和幾何形狀，通過預設成像方法生成掩膜的空間像。本方案可以提高掩膜成像的精度。
本發(fā)明授權(quán)掩膜成像方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種掩膜成像方法，其特征在于，包括：獲取掩膜的幾何形狀和特征信息，所述掩膜包括至少兩層介質(zhì)；基于所述特征信息，使用傳輸矩陣法計算每層所述介質(zhì)的傳輸矩陣，以得到所述掩膜的總傳輸矩陣；基于所述總傳輸矩陣對初始入射場進行修正，得到目標入射場；根據(jù)所述目標入射場，計算所述掩膜每個點的衍射近場強度；根據(jù)所述衍射近場強度和所述幾何形狀，通過預設成像方法生成所述掩膜的空間像。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人華芯程(杭州)科技有限公司，其通訊地址為：310000 浙江省杭州市余杭區(qū)良渚街道網(wǎng)周路99號1幢22層2208室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據(jù)或者憑證。
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