買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利改善雙重圖案化工藝的方位關鍵尺寸不均勻性獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112313787B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980043124.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權改善雙重圖案化工藝的方位關鍵尺寸不均勻性是由普爾凱特·阿加瓦爾;阿德里安·拉沃伊;弗蘭克·洛倫·帕斯夸里;拉維·庫馬爾設計研發完成，并于2019-06-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本改善雙重圖案化工藝的方位關鍵尺寸不均勻性在說明書摘要公布了：一種用于調整處理室中的噴頭的位置的方法包括：將包括多個心軸的襯底設置在所述處理室中的襯底支撐件上；并且相對于所述襯底支撐件來調整所述噴頭的位置。調整所述噴頭的所述位置的操作包括基于指示所述噴頭的位置和與蝕刻所述襯底相關的方位不均勻性之間的相關性的數據將所述噴頭調整到傾斜位置。所述方法還包括：在所述噴頭處于基于所述數據而調整到的所述傾斜位置的情況下，執行修整步驟以蝕刻所述多個心軸。

本發明授權改善雙重圖案化工藝的方位關鍵尺寸不均勻性在權利要求書中公布了：1.一種用于調整處理室中的噴頭的位置的方法，所述方法包括：將襯底設置在所述處理室中的襯底支撐件上，其中在所述襯底上形成多個心軸；相對于所述襯底支撐件來調整所述噴頭的位置，其中調整所述噴頭的所述位置的操作包括基于指示所述噴頭的位置和與蝕刻所述襯底相關的方位蝕刻不均勻性之間的相關性的數據將所述噴頭調整到傾斜位置，其中所述數據指示所述方位蝕刻不均勻性對所述噴頭的多個不同傾斜位置中的各個位置的靈敏度，并且包括所述多個不同傾斜位置中的每一個在所述襯底表面上各處的蝕刻量的各自的標準偏差；以及在所述噴頭處于基于所述數據而調整到的所述傾斜位置的情況下，執行修整步驟以蝕刻所述多個心軸，其中調整所述噴頭的所述位置的操作包括將所述噴頭的位置調整至傾斜位置，該傾斜位置具有由所述數據所指示的所述多個不同傾斜位置中的每一個在所述襯底表面上各處的蝕刻量的各自的標準偏差中最小的標準偏差。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。