恭喜ASML荷蘭有限公司N·加瓦赫里獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利量測方法和相關的計算機產品獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114080536B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080049670.6，技術領域涉及：G01B11/00；該發明授權量測方法和相關的計算機產品是由N·加瓦赫里;M·范德沙爾;張鐵明;H·D·波斯;P·沃納爾;S·巴拉米;M·哈吉阿瑪迪;S·塔拉布林;M·塞姆克夫設計研發完成，并于2020-07-07向國家知識產權局提交的專利申請。
本量測方法和相關的計算機產品在說明書摘要公布了：公開了一種方法，該方法包括：測量從量測目標反射的輻射，以及將經測量的輻射以分量進行分解，例如傅里葉分量或空間分量。此外，公開一種方案選擇方法，其提供一種用于基于基于單分量的經測量的輻射的重新計算的相關性來選擇量測設備的參數的算法。
本發明授權量測方法和相關的計算機產品在權利要求書中公布了：1.一種測量光刻工藝的參數的方法，包括：測量從量測設備中的被測的量測目標反射的第一輻射，所述量測目標包括上部結構和下部結構，其中所述下部結構具有傾斜度并且沿所述量測目標的深度方向與所述上部結構相距預定距離，所述上部結構和所述下部結構之間設置有具有不同折射率的交替層；改變所述量測設備的參數、照射模式或成像模式；在所述改變之后，測量從所述量測目標反射的第二輻射；以及基于測量的被反射的所述第一輻射和所述第二輻射，將經測量的所述輻射以分量進行分解。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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