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龍圖騰網(wǎng)恭喜山口精研工業(yè)株式會社申請的專利研磨劑組合物以及使用研磨劑組合物的研磨方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116323842B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-30發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180059750.4，技術領域涉及：H01L21/304；該發(fā)明授權(quán)研磨劑組合物以及使用研磨劑組合物的研磨方法是由后藤優(yōu)治;堀本真樹;原口哲朗;巢河慧設計研發(fā)完成，并于2021-07-09向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本研磨劑組合物以及使用研磨劑組合物的研磨方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種研磨劑組合物，其能夠?qū)崿F(xiàn)研磨速度等鏡面研磨加工的迅速化，并且提升鏡面研磨后的半導體晶片的晶片表面的平滑性和平坦性，能夠進行高加工精度的鏡面精加工，并且保存穩(wěn)定性優(yōu)異。研磨劑組合物是對包含III?V族化合物作為構(gòu)成成分的研磨對象物進行研磨加工的組合物，其具備膠體二氧化硅colloidalsilica、氧化劑、氧化促進劑，用于促進利用氧化劑的研磨對象物的表面的氧化反應；穩(wěn)定劑，其用于控制利用氧化促進劑的研磨對象物的表面的氧化反應的促進作用；和水。

本發(fā)明授權(quán)研磨劑組合物以及使用研磨劑組合物的研磨方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種研磨劑組合物，用于對包含III-V族化合物作為構(gòu)成成分的研磨對象物進行研磨加工，所述研磨劑組合物包含膠體二氧化硅、氧化劑、氧化促進劑、穩(wěn)定劑和水，所述氧化促進劑用于促進所述氧化劑對所述研磨對象物的表面的氧化反應；所述穩(wěn)定劑用于控制所述氧化促進劑對所述研磨對象物的表面的氧化反應的促進作用，所述研磨劑組合物的25℃下的pH為0.1～6.0的范圍，所述氧化促進劑為無機酸金屬鹽或有機酸金屬鹽中的任一種，所述無機酸金屬鹽為硝酸鐵或硫酸鐵中的任一種，所述穩(wěn)定劑為多元羧酸，所述多元羧酸為丙二酸。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人山口精研工業(yè)株式會社，其通訊地址為：日本國愛知縣；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。