恭喜株式會社科特拉小川亮一獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜株式會社科特拉申請的專利烴吸附裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116368099B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180071785.X,技術領域涉及:B01D53/04;該發明授權烴吸附裝置是由小川亮一;千葉明哉;今井啟人設計研發完成,并于2021-10-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本烴吸附裝置在說明書摘要公布了:本發明提供一種使流體流通并吸附上述流體中的烴類的烴吸附裝置10。烴吸附裝置10具有包含沸石的第一烴吸附部20和設置于比第一烴吸附部20更靠上述流體的流動方向的下游側且包含沸石的第二烴吸附部30。第一烴吸附部20所含的上述沸石的細孔徑P1小于第二烴吸附部30所含的上述沸石的細孔徑P2即P1<P2。
本發明授權烴吸附裝置在權利要求書中公布了:1.一種烴吸附裝置,其使流體流通并吸附所述流體中的烴類,該烴吸附裝置的特征在于,具有:包含沸石的第一烴吸附部;和設置于比所述第一烴吸附部更靠所述流體的流動方向的下游側且包含沸石的第二烴吸附部,所述第一烴吸附部所含的所述沸石的細孔徑P1小于所述第二烴吸附部所含的所述沸石的細孔徑P2,所述第一烴吸附部所含的所述沸石的二氧化硅氧化鋁之比小于所述第二烴吸附部所含的所述沸石的二氧化硅氧化鋁之比,所述二氧化硅氧化鋁之比是指所述沸石中的二氧化硅成分相對于氧化鋁成分的摩爾比。
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