恭喜上海芯刻微材料技術有限責任公司王溯獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜上海芯刻微材料技術有限責任公司申請的專利一種193nm濕法光刻膠用添加劑及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116082609B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111307595.1,技術領域涉及:C08G63/06;該發明授權一種193nm濕法光刻膠用添加劑及其制備方法和應用是由王溯;方書農;徐森;鄒琴峰設計研發完成,并于2021-11-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種193nm濕法光刻膠用添加劑及其制備方法和應用在說明書摘要公布了:本發明公開了一種193nm濕法光刻膠用添加劑及其制備方法和應用。具體公開了一種如式I所示的添加劑;所述添加劑的重均分子量為1000~3000;所述添加劑的重均分子量數均分子量比值為1~5。本發明添加劑至少具有以下優勢:含該添加劑的光刻膠可改善在浸沒式光刻曝光過程中材料在水中被浸出的問題,從而可以形成具有優異敏感性和高分辨率的光刻膠膜微圖案。
本發明授權一種193nm濕法光刻膠用添加劑及其制備方法和應用在權利要求書中公布了:1.一種如式I所示的添加劑;所述添加劑的重均分子量為1000~3000;所述添加劑的重均分子量數均分子量比值為1~5;
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