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龍圖騰網恭喜浙江華是科技股份有限公司申請的專利激光點云去噪方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119848439B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510329591.5，技術領域涉及：G06F18/10；該發明授權激光點云去噪方法及系統是由沈琳;葉建標;盛凱威;楊姍姍;張進虎;吳博競設計研發完成，并于2025-03-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本激光點云去噪方法及系統在說明書摘要公布了：本發明實施例公開了一種激光點云去噪方法及系統，其中，該方法包括：對幀點云進行預處理得到初始點云；刪除初始點云中距離近且反射率低的點并篩選出第一待處理點集；對第一待處理點集中每個點在處理點云中進行搜索得到周邊點，確定目標噪點、附著點及目標噪點對應的目標周邊點，將目標周邊點加入第一待處理點集得到第二待處理點集，更新附著點；對第二待處理點集聚類并確定噪點聚類，將其中的點加入初始噪點點集得到最新噪點點集；對入侵點云根據最新噪點點集進行噪點標記，之后聚類并判斷有效聚類及確定噪點，從有效聚類中刪除對應待去除噪點，得到目標聚類；根據處理點云及當前背景點云更新當前背景點云。提高去噪的準確性及目標識別精度。

本發明授權激光點云去噪方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種激光點云去噪方法，其特征在于，包括：獲取當前幀的幀點云，對所述幀點云進行預處理后得到初始點云；從所述初始點云中將反射率低于第一預設反射率閾值，且與原點距離小于預設距離閾值的點移至初始噪點點集，得到處理點云；將所述處理點云中反射率低于第二預設反射率閾值，且與原點距離小于所述預設距離閾值的點作為第一待處理點集；其中，所述第二預設反射率閾值大于第一預設反射率閾值；遍歷所述第一待處理點集，對每個待處理點根據預設半徑在所述處理點云中進行鄰域搜索得到周邊點，根據周邊點的分布特征及反射率判斷該待處理點是否為目標噪點，若是，根據反射率確定目標噪點對應的目標周邊點，并將目標周邊點加入所述第一待處理點集；若否，將該待處理點作為附著點從第一待處理點集移至附著點集，并根據對應周邊點更新該附著點在處理點云中的位置及反射率；遍歷后得到第二待處理點集；對所述第二待處理點集進行聚類得到第一聚類結果；根據所述第一聚類結果的聚類特征判斷噪點聚類，將所述噪點聚類中的點加入所述初始噪點點集，得到最新噪點點集；根據所述最新噪點點集對入侵點云進行噪點標記；對所述入侵點云進行聚類，得到第二聚類結果，根據所述第二聚類結果的聚類特征判斷有效聚類及待去除噪點，從所述有效聚類中刪除對應待去除噪點，得到目標聚類；取消所述目標聚類中其余噪點的標記，并將所述其余噪點從最新噪點點集中刪除，根據所述目標聚類進行目標識別；根據所述處理點云及當前背景點云更新當前背景點云；其中，所述入侵點云預先根據處理點云與當前背景點云進行差分得到。

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