買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜分子印記公司申請(qǐng)的專利在壓印光刻工藝中配置光學(xué)層獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN117806119B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202410025025.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/00；該發(fā)明授權(quán)在壓印光刻工藝中配置光學(xué)層是由V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2017-09-14向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本在壓印光刻工藝中配置光學(xué)層在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及在壓印光刻工藝中配置光學(xué)層。配置光學(xué)層的壓印光刻方法包括利用圖案化模板在襯底的一面上壓印具有第一數(shù)量級(jí)的尺寸的第一特征，同時(shí)利用圖案化模板在襯底的該面上壓印具有第二數(shù)量級(jí)的尺寸的第二特征，第二特征尺寸確定且布置成在襯底與相鄰表面之間限定一間隙。

本發(fā)明授權(quán)在壓印光刻工藝中配置光學(xué)層在權(quán)利要求書中公布了：1.一種多層可佩戴目鏡，包括：第一光學(xué)層，所述第一光學(xué)層包括：第一襯底，在第一襯底的一面上的第一波導(dǎo)，所述第一波導(dǎo)包括：功能圖案，其中所述功能圖案包括在第一位置的具有第一數(shù)量級(jí)的尺寸的第一特征，其中，第一特征包括第一衍射光柵，所述第一衍射光柵被構(gòu)造成投射第一波長(zhǎng)范圍的光并將虛像聚焦在第一深度平面，其中第一衍射光柵包括第一入耦合光柵并形成第一正交光瞳擴(kuò)展區(qū)和第一出射光瞳擴(kuò)展區(qū)，和圍繞功能圖案的輔助圖案，所述輔助圖案包括：具有所述第一數(shù)量級(jí)的尺寸的附加的第一特征，其中所述附加的第一特征包括抗反射特征，和分別在所述第一襯底的所述面上與第一位置橫向間隔開的第二位置處的具有第二數(shù)量級(jí)的尺寸的第二特征，第二數(shù)量級(jí)的尺寸大于第一數(shù)量級(jí)的尺寸；和第二光學(xué)層，所述第二光學(xué)層附接到所述第二特征以在第一光學(xué)層和第二光學(xué)層之間限定一具有所述第二數(shù)量級(jí)的尺寸的間隙，所述第二光學(xué)層包括：第二襯底，和第二波導(dǎo)，所述第二波導(dǎo)包括第二衍射光柵，所述第二衍射光柵被構(gòu)造成投射第二波長(zhǎng)范圍的光并將虛像聚焦在第二深度平面，其中第二衍射光柵包括第二入耦合光柵并形成第二正交光瞳擴(kuò)展區(qū)和第二出射光瞳擴(kuò)展區(qū)。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人分子印記公司，其通訊地址為：美國(guó)德克薩斯州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。