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龍圖騰網(wǎng)恭喜佛山市南海科日超聲電子有限公司申請(qǐng)的專利耐腐型超聲霧化機(jī)構(gòu)、霧化器及消毒霧化設(shè)備獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112264243B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011133745.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B05B17/06；該發(fā)明授權(quán)耐腐型超聲霧化機(jī)構(gòu)、霧化器及消毒霧化設(shè)備是由盧剛俊;梁羽翔;何元琪;陳國(guó)良;馮錦云;葉衛(wèi)忠設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-10-21向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本耐腐型超聲霧化機(jī)構(gòu)、霧化器及消毒霧化設(shè)備在說明書摘要公布了：耐腐型超聲霧化機(jī)構(gòu)、霧化器及消毒霧化設(shè)備，包括基體，霧化組件，基體上設(shè)置有安裝孔；其特征在于，霧化組件包括采用同樣的非金屬耐腐蝕材料所制造的內(nèi)支架體和壓蓋，這樣就能讓它們具有基本相同的熱碰撞系數(shù)從而能適應(yīng)于不同的溫度環(huán)境的變化而不會(huì)容易產(chǎn)生連接松動(dòng)且不會(huì)容易老化變形；內(nèi)支架體布置在基體的內(nèi)側(cè)；壓蓋具有壓蓋中央孔，壓蓋布置在內(nèi)支架體的上面，基體被夾持在壓蓋與內(nèi)支架體的腔側(cè)壁之間，基體通過壓緊密封圈實(shí)現(xiàn)與壓蓋、內(nèi)支架體之間的密封連接，在內(nèi)容腔中設(shè)置有霧化晶片，還包括散熱鋁件，內(nèi)支架體的外側(cè)適配貼合散熱鋁件，內(nèi)支架體與散熱鋁件的組合使用，解決了內(nèi)支架體散熱特性降低的及使用環(huán)境的多種適應(yīng)性問題。

本發(fā)明授權(quán)耐腐型超聲霧化機(jī)構(gòu)、霧化器及消毒霧化設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.耐腐型超聲霧化機(jī)構(gòu)，包括基體，霧化組件，所述基體上設(shè)置有安裝孔；其特征在于，所述霧化組件包括采用同樣的非金屬耐腐蝕材料所制造的內(nèi)支架體和壓蓋，所述內(nèi)支架體布置在所述基體的內(nèi)側(cè)，所述內(nèi)支架體包括呈上部敞口狀的內(nèi)容腔從而具有腔側(cè)壁和腔底壁，所述內(nèi)容腔的上部敞口朝向所述安裝孔；所述壓蓋具有壓蓋中央孔，所述壓蓋布置在所述內(nèi)支架體的上面，所述基體被夾持在所述壓蓋與所述內(nèi)支架體的腔側(cè)壁之間，所述基體通過壓緊密封圈實(shí)現(xiàn)與所述壓蓋、所述內(nèi)支架體之間的密封連接，在所述內(nèi)容腔中設(shè)置有霧化晶片，所述霧化晶片正面的中央?yún)^(qū)域位于所述壓蓋中央孔的下方，還包括散熱鋁件，所述散熱鋁件具有內(nèi)凹腔，所述散熱鋁件通過所述內(nèi)凹腔貼合所述內(nèi)支架體的外側(cè)；在所述霧化晶片的背面設(shè)置有間隔開的正負(fù)電極即第一電極和第二電極，所述第一電極環(huán)繞著所述第二電極并彼此電隔離；兩個(gè)彈性電觸頭左右布置在所述霧化晶片的下方并分別電連接所述霧化晶片背面的正負(fù)電極，兩個(gè)所述電觸頭之間彼此電隔離；所述電觸頭具有彈性并彈性頂靠住所述霧化晶片背面的正負(fù)電極，所述電觸頭電信號(hào)連接電引線，兩個(gè)所述電引線分別穿過所述內(nèi)支架體的腔底壁、散熱鋁件延伸出來；所述霧化晶片的下方還設(shè)置有晶片支撐架，所述晶片支撐架的下部設(shè)置有兩條對(duì)應(yīng)于兩個(gè)所述電觸頭的延伸腿，所述腔底壁上設(shè)置有對(duì)應(yīng)于所述延伸腿的底壁孔，所述散熱鋁件上設(shè)置有兩個(gè)對(duì)應(yīng)于所述延伸腿的鋁件避讓孔，所述延伸腿穿過并過盈配合連接所述底壁孔、鋁件避讓孔，兩個(gè)所述電引線分別穿過所述晶片支撐架的延伸腿并借助于所述延伸腿進(jìn)而穿過所述腔底壁、鋁件避讓孔而延伸出來；所述霧化組件還包括呈環(huán)形的晶片密封圈，所述晶片密封圈套在所述霧化晶片的外周并被夾持在所述壓蓋與所述晶片支撐架之間從而實(shí)現(xiàn)對(duì)所述霧化晶片的密封，所述壓蓋、晶片密封圈、晶片支撐架、腔底壁依次上下布置并擠壓在一起；所述晶片支撐架的頂部外側(cè)呈臺(tái)階狀，所述晶片密封圈落入到所述臺(tái)階的下階面上，所述臺(tái)階的上階面接觸到所述霧化晶片的下表面上；所述晶片密封圈包括吻合在所述霧化晶正面周邊的上唇壁體，所述霧化晶片正面的所述上唇壁體沒有吻合到的區(qū)域構(gòu)成所述中央?yún)^(qū)域，至少所述中央?yún)^(qū)域沒有設(shè)置電極。

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