恭喜上海華力集成電路制造有限公司曹海瑞獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜上海華力集成電路制造有限公司申請(qǐng)的專利一種區(qū)分化學(xué)機(jī)械拋光圖層故障缺陷源的方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN114121701B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202111327433.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/66;該發(fā)明授權(quán)一種區(qū)分化學(xué)機(jī)械拋光圖層故障缺陷源的方法是由曹海瑞設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-11-10向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種區(qū)分化學(xué)機(jī)械拋光圖層故障缺陷源的方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種區(qū)分化學(xué)機(jī)械拋光圖層故障缺陷源的方法,包括獲取產(chǎn)品芯片的設(shè)計(jì)信息,根據(jù)設(shè)計(jì)信息得到第一特征圖;獲取晶圓的圖形,以與第一特征圖相同的坐標(biāo)原點(diǎn)賦予晶圓的圖形,從而得到第二特征圖;將第二特征圖導(dǎo)入現(xiàn)有技術(shù)中的ADC服務(wù)器的數(shù)據(jù)庫(kù),得到缺陷坐標(biāo),其中數(shù)據(jù)庫(kù)根據(jù)不同的工藝機(jī)臺(tái)所產(chǎn)生的缺陷類型進(jìn)行缺陷編碼分類;ADC服務(wù)器在分類時(shí),利用缺陷坐標(biāo)與第一特征圖的坐標(biāo)進(jìn)行匹配,從而對(duì)比得到缺陷坐標(biāo)處于第一特征圖上的位置;確定缺陷坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的工藝機(jī)臺(tái),能夠由循環(huán)自動(dòng)精確分類,排除人為干預(yù),幫助工程師快速準(zhǔn)確的鎖定加工機(jī)臺(tái),防止更多的影響批次產(chǎn)生,提高產(chǎn)品良率。
本發(fā)明授權(quán)一種區(qū)分化學(xué)機(jī)械拋光圖層故障缺陷源的方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種區(qū)分化學(xué)機(jī)械拋光圖層故障缺陷源的方法,其特征在于,至少包括:步驟一、獲取產(chǎn)品芯片的設(shè)計(jì)信息,芯片的設(shè)計(jì)信息包括芯片的設(shè)計(jì)版圖,根據(jù)所述設(shè)計(jì)版圖中的各個(gè)部分通過(guò)CAD繪制得到第一特征圖,其中所述第一特征圖的不同位置分別對(duì)應(yīng)不同的工藝機(jī)臺(tái);步驟二、獲取晶圓的圖形,其中所述晶圓的圖形與所述第一特征圖的大小比例相同,以與所述第一特征圖相同的坐標(biāo)原點(diǎn)賦予所述晶圓的圖形,從而得到第二特征圖;步驟三、將所述第二特征圖導(dǎo)入ADC服務(wù)器的數(shù)據(jù)庫(kù),使得所述ADC服務(wù)器得到所述第二特征圖中的缺陷坐標(biāo),其中所述數(shù)據(jù)庫(kù)根據(jù)不同的所述工藝機(jī)臺(tái)所產(chǎn)生的缺陷類型進(jìn)行缺陷編碼分類;步驟四、所述ADC服務(wù)器對(duì)所述缺陷坐標(biāo)進(jìn)行分類,利用所述缺陷坐標(biāo)與所述第一特征圖的坐標(biāo)進(jìn)行匹配,從而對(duì)比得到所述缺陷坐標(biāo)處于所述第一特征圖上的位置;步驟五、根據(jù)步驟三中的所述缺陷編碼確定所述缺陷坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的所述工藝機(jī)臺(tái)。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人上海華力集成電路制造有限公司,其通訊地址為:201203 上海市浦東新區(qū)良騰路6號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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