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龍圖騰網恭喜山東大學申請的專利一種可增強存儲窗口的鐵電雙退火工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113889406B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111325627.0，技術領域涉及：H01L21/324；該發明授權一種可增強存儲窗口的鐵電雙退火工藝是由陳杰智;臺路;魏巍設計研發完成，并于2021-11-10向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種可增強存儲窗口的鐵電雙退火工藝在說明書摘要公布了：本發明公開一種可增強存儲窗口的鐵電雙退火工藝，本方法在鐵電存儲器成長功能層之前進行預退火，在生長上電極之后進行后退火；所述預退火是指將待成長功能層的存儲器放入退火爐中，在氮氣的氛圍下，用速度V1升溫，溫度到達200?500攝氏度之間時，保持時間T1，T1之后，快速退火，當溫度退到40?60攝氏度時，取出待成長功能層的存儲器；后退火是指將生長好上電極的存儲器放入退火爐內，在氮氣的氛圍下，用速度V2升溫，溫度到達400?700攝氏度之間時，保持時間T2，T2之后，快速退火，當溫度推到40?60攝氏度時，取出生長好上電極的存儲器。本發明相對于不做預退火的功能層，能夠有更大的存儲窗口。

本發明授權一種可增強存儲窗口的鐵電雙退火工藝在權利要求書中公布了：1.一種可增強存儲窗口的鐵電雙退火工藝，其特征在于：本方法在鐵電存儲器生成功能層之前進行預退火，在生長上電極之后進行后退火；預退火是在下電極之上沉積完預退火插層后對預退火插層進行退火，預退火插層為氧化鋯層，功能層為鉿鋯氧功能層，上電極為材料是氮化鈦；所述預退火是指將待生長功能層的存儲器放入退火爐中，在氮氣的氛圍下，用速度V1升溫，溫度到達200-500攝氏度之間時，保持時間T1，T1之后，快速退火，當溫度退到40-60攝氏度時，取出待生長功能層的存儲器；后退火是指將生長好上電極的存儲器放入退火爐內，在氮氣的氛圍下，用速度V2升溫，溫度到達400-700攝氏度之間時，保持時間T2，T2之后，快速退火，當溫度推到40-60攝氏度時，取出生長好上電極的存儲器。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人山東大學，其通訊地址為：250100 山東省濟南市歷城區山大南路27號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。