恭喜ASML荷蘭有限公司席慶坡獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于多射束檢查裝置中的次級射束的對準的系統和方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113632196B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080024585.4，技術領域涉及：H01J37/05；該發明授權用于多射束檢查裝置中的次級射束的對準的系統和方法是由席慶坡;胡學讓;劉學東;任偉明;陳仲瑋設計研發完成，并于2020-03-06向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于多射束檢查裝置中的次級射束的對準的系統和方法在說明書摘要公布了：公開了一種包括可調射束分離器的多射束檢查裝置?？烧{射束分離器被配置為改變次級粒子射束的路徑。可調射束分離器包括第一維恩過濾器和第二維恩過濾器。兩個維恩過濾器都與初級光學軸線對準。第一維恩過濾器和第二維恩過濾器是分別經由第一激勵輸入和第二激勵輸入而獨立可控的?？烧{射束分離器被配置為基于第一激勵輸入和第二激勵輸入，沿著初級光學軸線來移動可調射束分離器的有效彎曲點。
本發明授權用于多射束檢查裝置中的次級射束的對準的系統和方法在權利要求書中公布了：1.一種可調帶電粒子射束分離器，被配置為在有效彎曲點處改變次級粒子射束的路徑，所述可調帶電粒子射束分離器包括：第一維恩過濾器，與初級光學軸線對準，其中所述第一維恩過濾器是經由第一激勵輸入而獨立可控的；以及第二維恩過濾器，與所述初級光學軸線對準，其中所述第二維恩過濾器是經由第二激勵輸入而獨立可控的，以及其中所述可調帶電粒子射束分離器被配置為：基于次級投影系統相對于所述可調帶電粒子射束分離器的對準特性，通過調整所述第一激勵輸入和所述第二激勵輸入，使得所述有效彎曲點能夠移動。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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