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龍圖騰網(wǎng)恭喜日進(jìn)材料股份有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利薄膜電容器制造用鎳箔及其制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114586121B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-24發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：201980101536.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01G4/33；該發(fā)明授權(quán)薄膜電容器制造用鎳箔及其制造方法是由宋基德;梁暢烈;尹相華設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-12-17向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本薄膜電容器制造用鎳箔及其制造方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明涉及一種電解鎳箔，在該電解鎳箔的至少一側(cè)的平坦表面的表面粗糙度Ra為0.05μm以下，Rz為0.2μm以下，并且Rt為0.5μm以下，并且通過(guò)測(cè)量60°鏡面反射角從而測(cè)定的光澤度為至少200GU。

本發(fā)明授權(quán)薄膜電容器制造用鎳箔及其制造方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種制備薄膜電容器用電解鎳箔的方法， 其中，所述電解鎳箔包括至少一個(gè)平坦表面，所述平坦表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.05μm以下，十點(diǎn)平均粗糙度Rz為0.20μm以下，最大凸起高度Rt為0.50μm以下，并且60°鏡面光澤度為200GU以上， 所述方法包括用pH為1至5的電解液進(jìn)行電解電鍍，所述電解液包含400gL至600gL的鎳離子前體、10gL至30gL的pH緩沖液、粗糙度控制劑， 所述粗糙度控制劑包含0.1gL至1gL糖精和0.4gL至0.8gL烯丙基磺酸鈉。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類(lèi)似專(zhuān)利技術(shù)，可聯(lián)系本專(zhuān)利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人日進(jìn)材料股份有限公司，其通訊地址為：韓國(guó)全羅北道；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。