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龍圖騰網恭喜東京應化工業株式會社申請的專利抗蝕劑組合物純化品的制造方法、抗蝕劑圖案形成方法、及抗蝕劑組合物純化品獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114008525B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080044627.0，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權抗蝕劑組合物純化品的制造方法、抗蝕劑圖案形成方法、及抗蝕劑組合物純化品是由中田明彥;安部未來;齋藤弘樹設計研發完成，并于2020-05-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本抗蝕劑組合物純化品的制造方法、抗蝕劑圖案形成方法、及抗蝕劑組合物純化品在說明書摘要公布了：抗蝕劑組合物純化品的制造方法,其包括工序ⅰ，即利用具有相鄰的球狀孔室彼此連通的多孔質結構的過濾器對抗蝕劑組合物進行過濾，上述過濾器具備多孔質膜，所述多孔質膜含有選自由聚酰亞胺及聚酰胺酰亞胺組成的組中的至少一種樹脂，上述抗蝕劑組合物含有對顯影液的溶解性因酸的作用而發生變化的基材成分A、鎓鹽、和有機溶劑成分S，上述有機溶劑成分S的含量為97質量％以上。

本發明授權抗蝕劑組合物純化品的制造方法、抗蝕劑圖案形成方法、及抗蝕劑組合物純化品在權利要求書中公布了：1.抗蝕劑組合物純化品的制造方法，其包括工序ⅰ，即利用具有相鄰的球狀孔室彼此連通的多孔質結構的過濾器對抗蝕劑組合物進行過濾，所述過濾器具備多孔質膜，所述多孔質膜具有選自由聚酰亞胺及聚酰胺酰亞胺組成的組中的至少一種樹脂，所述抗蝕劑組合物含有對顯影液的溶解性因酸的作用而發生變化的基材成分A、鎓鹽、和有機溶劑成分S，所述有機溶劑成分S的含量為97質量％以上，所述基材成分A包含具有下述通式a1-1或a1-2表示的結構單元的高分子化合物， 式a1-1或a1-2中，R為氫原子、碳原子數1～5的烷基或碳原子數1～5的鹵代烷基，Va1為可具有醚鍵的二價烴基，na1為0～2的整數，Ra1為下述通式a1-r-1或a1-r-2表示的酸解離性基團，Wa1為na2+1價的烴基，na2為1～3的整數，Ra2為下述通式a1-r-1或a1-r-3表示的酸解離性基團， 式a1-r-1中，Ra’1、Ra’2為氫原子或烷基，Ra’3為烴基，且Ra’3可以與Ra’1、Ra’2中的任一者鍵合而形成環， 式a1-r-2中，Ra’4～Ra’6各自為烴基，且Ra’5、Ra’6可以彼此鍵合而形成環， 式a1-r-3中，Ra’7～Ra’9各自為烷基，所述鎓鹽包含下述通式d1-1ˉd1-3中任一種表示的化合物， 式d1-1ˉd1-3中，Rd1～Rd4為可具有取代基的環式基團、可具有取代基的鏈狀烷基、或可具有取代基的鏈狀烯基，其中，式d1-2中的Rd2中的、與S原子相鄰的碳原子未鍵合氟原子，Yd1為單鍵或二價連接基團，m為1以上的整數，Mm+各自獨立地為m價的有機陽離子。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京應化工業株式會社，其通訊地址為：日本神奈川縣；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。