恭喜北京北方華創微電子裝備有限公司蘭玥獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜北京北方華創微電子裝備有限公司申請的專利磁控濺射設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115704087B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110890836.3，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權磁控濺射設備是由蘭玥設計研發完成，并于2021-08-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本磁控濺射設備在說明書摘要公布了：本申請公開一種磁控濺射設備，其包括：工藝腔室；靶材，設置于所述工藝腔室的頂部；承載基座，用于承載晶圓，所述承載基座設置于所述工藝腔室內，沿所述工藝腔室的高度方向，所述承載基座相對設置于所述靶材的下方；導向裝置，設置于所述靶材與所述承載基座之間，所述導向裝置被配置為在所述工藝腔室內形成電場或磁場，所述電場或磁場用于調整靶材濺射出的粒子的運動軌跡，以使所述粒子趨于垂直沉積于所述晶圓上。上述方案能夠優化靶材濺射出的粒子的沉積質量。
本發明授權磁控濺射設備在權利要求書中公布了：1.一種磁控濺射設備，其特征在于，包括：工藝腔室；靶材，設置于所述工藝腔室的頂部；承載基座，用于承載晶圓，所述承載基座設置于所述工藝腔室內，沿所述工藝腔室的高度方向，所述承載基座相對設置于所述靶材的下方；導向裝置，設置于所述靶材與所述承載基座之間，所述導向裝置被配置為在所述工藝腔室內形成磁場，所述磁場用于調整靶材濺射出的粒子的運動軌跡，以使所述粒子趨于垂直沉積于所述晶圓上；所述導向裝置包括多個主體件和至少一個磁場形成組件，沿所述工藝腔室的高度方向，多個所述主體件由上至下依次間隔設置，每個所述主體件開設有多個通孔，且相鄰兩個所述主體件的所述多個通孔一一對應，所述磁場形成組件用于在相鄰的兩個所述主體件之間形成子磁場。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京北方華創微電子裝備有限公司，其通訊地址為：100176 北京市大興區經濟技術開發區文昌大道8號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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