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龍圖騰網(wǎng)恭喜北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司申請的專利靜電卡盤及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114203617B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111505206.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/683；該發(fā)明授權(quán)靜電卡盤及其制備方法是由賀小明設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-12-10向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本靜電卡盤及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種靜電卡盤及其制備方法，該靜電卡盤包括基座、設(shè)置在基座上的用于加熱晶圓的加熱層和設(shè)置在加熱層上的用于吸附晶圓的吸附層，其中，加熱層與基座之間、加熱層與吸附層之間以及加熱層的側(cè)面均設(shè)置有粘結(jié)層，其特征在于，還包括具有耐腐蝕材質(zhì)的密封環(huán)，密封環(huán)上設(shè)置有多個在密封環(huán)的內(nèi)側(cè)面和外側(cè)面之間貫穿的通孔，密封環(huán)設(shè)置在基座上，且環(huán)繞在加熱層的周圍，用于對位于密封環(huán)內(nèi)側(cè)的粘結(jié)層進行密封。本發(fā)明提供的靜電卡盤及其制備方法，可以顯著降低粘結(jié)層被刻蝕產(chǎn)生顆粒污染的可能性和危險性，從而可以改善等離子體刻蝕工藝的穩(wěn)定性，提高芯片產(chǎn)品良率。

本發(fā)明授權(quán)靜電卡盤及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種靜電卡盤，包括基座、設(shè)置在所述基座上的用于加熱晶圓的加熱層和設(shè)置在所述加熱層上的用于吸附晶圓的吸附層，其中，所述加熱層與所述基座之間、所述加熱層與所述吸附層之間以及所述加熱層的側(cè)面均設(shè)置有粘結(jié)層，其特征在于，還包括具有耐腐蝕材質(zhì)的密封環(huán)，所述密封環(huán)上設(shè)置有多個在所述密封環(huán)的內(nèi)側(cè)面和外側(cè)面之間貫穿的通孔，所述通孔允許所述粘結(jié)層的粘結(jié)材料在熱壓狀態(tài)下通過，所述密封環(huán)設(shè)置在所述基座上，且環(huán)繞在所述加熱層的周圍，用于對位于所述密封環(huán)內(nèi)側(cè)的所述粘結(jié)層進行密封。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司，其通訊地址為：100176 北京市北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)文昌大道8號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。