恭喜長江存儲科技有限責任公司張豆豆獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜長江存儲科技有限責任公司申請的專利對準標記的形成方法、掩膜版以及半導體結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115509083B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210640392.2，技術領域涉及：G03F1/42；該發明授權對準標記的形成方法、掩膜版以及半導體結構是由張豆豆;邱瑾玉;陳媛設計研發完成，并于2022-06-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本對準標記的形成方法、掩膜版以及半導體結構在說明書摘要公布了：該發明公開了一種對準標記的形成方法、掩膜版以及半導體結構，所述掩膜版包括至少一對準掩膜圖案，所述對準掩膜圖案包括多個第一對準圖案和多個第二對準圖案，多個所述第一對準圖案和多個所述第二對準圖案沿第一方向間隔交替分布，每個所述第一對準圖案具有呈周期性排布的多個第一標記圖案。根據本發明實施例的用于半導體自對準光刻工藝的掩膜版，使得形成的對準標記能夠避免形成較強的反射光而干擾對準信號，對準信號強且對準精度高。
本發明授權對準標記的形成方法、掩膜版以及半導體結構在權利要求書中公布了：1.一種用于半導體自對準光刻工藝的掩膜版，其特征在于，包括至少一對準掩膜圖案，所述對準掩膜圖案包括多個第一對準圖案和多個第二對準圖案，多個所述第一對準圖案和多個所述第二對準圖案沿第一方向間隔交替分布，每個所述第一對準圖案具有呈周期性排布的多個第一標記圖案，所述第二對準圖案具有多個第二標記圖案，所述第一對準圖案的圖形密度與所述第二對準圖案的圖形密度不同，所述掩膜版還包括器件區掩膜圖案，所述第二標記圖案的圖形寬度以及相鄰所述第二標記圖案之間的間距與所述器件區掩膜圖案的圖形寬度以及相鄰所述器件區掩膜圖案的間距相同。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人長江存儲科技有限責任公司，其通訊地址為：430074 湖北省武漢市東湖新技術開發區未來三路88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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