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龍圖騰網恭喜華晟昇納米科技(成都)有限公司申請的專利一種用腔體璧作陽極罩且精簡結構的小型圓形平面靶獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119710603B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510240169.2，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權一種用腔體璧作陽極罩且精簡結構的小型圓形平面靶是由張斌;周君君設計研發完成，并于2025-03-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種用腔體璧作陽極罩且精簡結構的小型圓形平面靶在說明書摘要公布了：本發明涉及磁控濺射鍍膜技術領域，具體涉及一種用腔體璧作陽極罩且精簡結構的小型圓形平面靶，包括鍍膜機本體，鍍膜機本體內設置有真空腔體，真空腔室的腔體壁上設置有貫通內外的安裝孔，還包括安裝法蘭，安裝法蘭在鍍膜機本體的外表面安裝于安裝孔的位置，安裝法蘭朝向安裝孔的一側安裝有磁軌座，磁軌座的中心設置有中心柱磁鐵，磁軌座環繞中心柱磁鐵設置有環磁鐵，磁軌座在中心柱磁鐵和環磁鐵之間設置有環形冷卻槽，安裝法蘭遠離安裝孔的一側設置有和環形冷卻槽相連通的進水口和出水口，磁軌座遠離安裝法蘭的一側安裝有靶。解決目前，大多數平面靶采用環磁鐵和中心柱磁鐵會直接浸泡在冷卻水中的方式進行降溫，這樣會加快磁能消耗的問題。

本發明授權一種用腔體璧作陽極罩且精簡結構的小型圓形平面靶在權利要求書中公布了：1.一種用腔體璧作陽極罩且精簡結構的小型圓形平面靶，包括鍍膜機本體，所述鍍膜機本體內設置有真空腔體，所述真空腔體的腔體壁（1）上設置有貫通內外的安裝孔，其特征在于，還包括安裝法蘭（6），所述安裝法蘭（6）在鍍膜機本體的外表面安裝于所述安裝孔的位置，所述安裝法蘭（6）朝向安裝孔的一側安裝有磁軌座（12），所述磁軌座（12）的中心設置有中心柱磁鐵（10），所述磁軌座（12）環繞所述中心柱磁鐵（10）設置有環磁鐵（9），所述磁軌座（12）在中心柱磁鐵（10）和環磁鐵（9）之間設置有環形冷卻槽，所述安裝法蘭（6）遠離安裝孔的一側設置有和所述環形冷卻槽相連通的進水口和出水口，所述磁軌座（12）遠離安裝法蘭（6）的一側安裝有靶材（15）；所述磁軌座（12）貼合安裝法蘭（6）一側的中心位置設置有用于安裝中心柱磁鐵（10）的中心槽，環繞所述中心槽設置有用于安裝環磁鐵（9）的環形槽；所述磁軌座（12）和安裝法蘭（6）之間設置有后墊鐵（11），所述后墊鐵（11）覆蓋所述中心槽和環形槽的槽口；所述磁軌座（12）通過磁軌座安裝螺栓（14）與所述安裝法蘭（6）固定相連；環繞所述磁軌座（12）的外壁設置有安裝絕緣法蘭（7），所述安裝絕緣法蘭（7）置于所述安裝法蘭（6）和所述鍍膜機本體表面之間。

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