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龍圖騰網獲悉北京特思迪半導體設備有限公司申請的專利晶圓膜厚測量不確定度的確定方法及設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119694921B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510208526.7，技術領域涉及：H01L21/66；該發明授權晶圓膜厚測量不確定度的確定方法及設備是由周惠言;蔣繼樂設計研發完成，并于2025-02-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本晶圓膜厚測量不確定度的確定方法及設備在說明書摘要公布了：本發明提供一種晶圓膜厚測量不確定度的確定方法及設備。應用于高精度測量技術領域。該方法包括：獲取晶圓膜厚測量裝置對晶圓膜厚測量的不確定度分量；不確定度分量包括波長測量不確定度、折射率測量不確定度、折射角測量不確定度、電壓測量不確定度、標準晶圓的標定系數偏差引起的不確定度；利用不確定度、、、、確定合成標準不確定度。本發明提高了晶圓膜厚測量過程中電壓信號的準確性，進一步實現拋光工藝終點的精確控制。

本發明授權晶圓膜厚測量不確定度的確定方法及設備在權利要求書中公布了：1.一種晶圓膜厚測量不確定度的確定方法，其特征在于，包括：獲取晶圓膜厚測量裝置對晶圓膜厚測量的不確定度分量；所述晶圓膜厚測量裝置包括光源、透鏡、反射鏡和光電二極管，其中所述光源用于發出光束，所述透鏡用于對光束進行擴束和準直后，將點光源轉成線光源，所述反射鏡用于將線光源進行反射，以照射至晶圓表面，所述光電二極管用于接收晶圓表面反射的反射光并產生電信號；所述不確定度分量包括波長測量不確定度、折射率測量不確定度、折射角測量不確定度、電壓測量不確定度、標準晶圓的標定系數偏差引起的不確定度；利用不確定度、、、、確定合成標準不確定度；其中，利用如下方式計算不確定度：獲取光源穩定性誤差和波長校準裝置的波長校準誤差；根據所述光源穩定性誤差和所述波長校準誤差計算不確定度；利用如下方式計算不確定度：通過膜厚測量設備獲取標準晶圓的真實膜厚值并獲取其所對應的反射率；多次獲取已知真實膜厚值的標準晶圓對應的電壓值，并計算所述電壓值的標準差s；根據重復性測量結果的次數和多次獲取標準晶圓的真實膜厚值對應的電壓值計算重復性測量結果的電壓平均值；根據重復性測量結果的次數、標準差s及電壓平均值計算不確定度；利用如下方式計算不確定度：根據所述電壓平均值、膜厚-電壓曲線擬合誤差帶來的不確定度一、由膜厚測量儀器誤差產生的不確定度二、線路噪聲誤差產生的不確定度三、AD轉換誤差引起的不確定度四計算不確定度；利用如下方式確定合成標準不確定度： ;其中，表示晶圓膜厚，表示光源的波長，表示晶圓薄膜的折射率，為折射到晶圓薄膜表面后的角度，表示電壓，表示標定系數。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京特思迪半導體設備有限公司，其通訊地址為：101300 北京市順義區杜楊北街3號院6號樓(順創)；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。