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龍圖騰網恭喜蘇州大學申請的專利基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN110703374B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911068277.7，技術領域涉及：G02B5/18；該發明授權基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵是由徐亞東;孫寶印;曹燕燕;高雷;孟慶權設計研發完成，并于2019-11-05向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵，其特征在于，所述超構光柵包括若干周期性分布的超晶胞，每個超晶胞包括金屬基體，金屬基體上設有若干周期性重復分布的凹槽，凹槽內填充有厚度不同的介質材料，且滿足：其中，k0＝2πλ為平面波真空的波矢，N為正整數，ε為介質材料的介電常數，介質材料的磁導率為1，m為超晶胞內介質材料的單元數，即一個超晶胞內的凹槽數量，di和di+1為第i和i+1個單元內介質材料的高度。本發明中基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵結構簡單、易于實現，只需在單元內填充厚度漸變的同一種介質材料阻抗不匹配，即可實現近乎完美效率的異常衍射現象。

本發明授權基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵在權利要求書中公布了：1.一種基于法布里珀羅共振的光學介質金屬超構光柵，其特征在于，所述超構光柵包括若干周期性分布的超晶胞，每個超晶胞包括金屬基體，金屬基體上設有若干周期性重復分布的凹槽，凹槽內填充有厚度不同的介質材料，且滿足： 其中，k0＝2πλ為平面波真空的波矢，N為正整數，ε為介質材料的介電常數，介質材料的磁導率為1，m為超晶胞內介質材料的單元數，即一個超晶胞內的凹槽數量，di和di+1為第i和i+1個單元內介質材料的高度；所述平面波經過超晶胞內第i個凹槽內的介質材料到達透射界面上時相位為： 所述平面波經過超晶胞內第i+1個凹槽內的介質材料到達透射界面上時相位為： 其中，為平面波入射到超構光柵的初始相位，h為超構光柵的總厚度；所述超晶胞內相鄰單元在透射界面上的透射相位差為所述超構光柵中超晶胞內介質材料的單元數m≥2。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州大學，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市相城區濟學路8號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。