恭喜MI2工廠有限責任公司C·科薩托獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜MI2工廠有限責任公司申請的專利用于將粒子注入襯底的設備和方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113811975B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080034328.9，技術領域涉及：H01J37/05；該發明授權用于將粒子注入襯底的設備和方法是由C·科薩托;F·克里彭多夫設計研發完成，并于2020-05-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于將粒子注入襯底的設備和方法在說明書摘要公布了：用于將粒子注入襯底12的設備包括粒子源2和粒子加速器4，用于產生包括帶正電離子的離子束10。設備還包括襯底支架30和能量過濾器20，其設置在粒子加速器4和襯底支架30之間。能量過濾器20是具有預定的結構輪廓的微結構化膜，用于設定在襯底12中由注入工藝產生的摻雜物深度分布和或缺陷深度分布。設備還包括用于離子束10的無源制動元件22，所述元件設置在所述粒子加速器4和襯底支架30之間并且與能量過濾器20間隔設置。
本發明授權用于將粒子注入襯底的設備和方法在權利要求書中公布了：1.一種用于將粒子注入襯底12的設備，包括：粒子源2和粒子加速器4，用于產生帶正電離子的離子束10；襯底支架30；能量過濾器20，其設置在所述粒子加速器4和所述襯底支架30之間，其中所述能量過濾器20是具有預定的結構輪廓的微結構化膜，用于設定在所述襯底12中通過注入產生的摻雜物深度分布和或缺陷深度分布；以及用于所述離子束10的至少一個無源制動元件22，所述無源制動元件22設置在所述粒子加速器4和所述襯底支架30之間并且與所述能量過濾器20間隔設置；其中，所述粒子加速器4是高頻線性加速器或回旋加速器；其中，所述粒子加速器4的配置僅能夠為每種離子類型提供一個固定的每核子能量，或其中，所述粒子加速器4的配置僅能夠提供在1MeV至50MeV的能量范圍內的離子，其中所述粒子加速器4具有這樣的配置，根據所述配置，只有少于十個可設定能量的離子束10是可能的。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人MI2工廠有限責任公司，其通訊地址為：德國耶拿市；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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