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龍圖騰網(wǎng)恭喜MI2工廠有限責(zé)任公司申請(qǐng)的專利用于將粒子注入襯底的設(shè)備和方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113811975B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080034328.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/05；該發(fā)明授權(quán)用于將粒子注入襯底的設(shè)備和方法是由C·科薩托;F·克里彭多夫設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-05-14向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本用于將粒子注入襯底的設(shè)備和方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：用于將粒子注入襯底12的設(shè)備包括粒子源2和粒子加速器4，用于產(chǎn)生包括帶正電離子的離子束10。設(shè)備還包括襯底支架30和能量過(guò)濾器20，其設(shè)置在粒子加速器4和襯底支架30之間。能量過(guò)濾器20是具有預(yù)定的結(jié)構(gòu)輪廓的微結(jié)構(gòu)化膜，用于設(shè)定在襯底12中由注入工藝產(chǎn)生的摻雜物深度分布和或缺陷深度分布。設(shè)備還包括用于離子束10的無(wú)源制動(dòng)元件22，所述元件設(shè)置在所述粒子加速器4和襯底支架30之間并且與能量過(guò)濾器20間隔設(shè)置。

本發(fā)明授權(quán)用于將粒子注入襯底的設(shè)備和方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種用于將粒子注入襯底12的設(shè)備，包括：粒子源2和粒子加速器4，用于產(chǎn)生帶正電離子的離子束10；襯底支架30；能量過(guò)濾器20，其設(shè)置在所述粒子加速器4和所述襯底支架30之間，其中所述能量過(guò)濾器20是具有預(yù)定的結(jié)構(gòu)輪廓的微結(jié)構(gòu)化膜，用于設(shè)定在所述襯底12中通過(guò)注入產(chǎn)生的摻雜物深度分布和或缺陷深度分布；以及用于所述離子束10的至少一個(gè)無(wú)源制動(dòng)元件22，所述無(wú)源制動(dòng)元件22設(shè)置在所述粒子加速器4和所述襯底支架30之間并且與所述能量過(guò)濾器20間隔設(shè)置；其中，所述粒子加速器4是高頻線性加速器或回旋加速器；其中，所述粒子加速器4的配置僅能夠?yàn)槊糠N離子類型提供一個(gè)固定的每核子能量，或其中，所述粒子加速器4的配置僅能夠提供在1MeV至50MeV的能量范圍內(nèi)的離子，其中所述粒子加速器4具有這樣的配置，根據(jù)所述配置，只有少于十個(gè)可設(shè)定能量的離子束10是可能的。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人MI2工廠有限責(zé)任公司，其通訊地址為：德國(guó)耶拿市；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。