3M創新有限公司;哈佛大學校長及研究員協會馬丁·B·沃克獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉3M創新有限公司;哈佛大學校長及研究員協會申請的專利光學超表面膜獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114829986B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080081707.3，技術領域涉及：G02B1/00；該發明授權光學超表面膜是由馬丁·B·沃克;羅伯特·L·布勞特;卡爾·K·斯滕斯瓦德;詹姆士·M·納爾遜;費德里科·卡帕索;X·尹;J-S·樸設計研發完成，并于2020-12-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學超表面膜在說明書摘要公布了：一種光學超表面膜，包括：具有第一主表面的柔性聚合物膜；圖案化聚合物層，其具有鄰近所述柔性聚合物膜的所述第一主表面的第一表面并且具有與所述第一表面相對的第二納米結構表面；以及折射率對比度層，其與所述圖案化聚合物層的所述納米結構表面相鄰，從而形成具有納米結構界面的納米結構雙層。納米結構雙層局部地對光的振幅、相位或偏振或其組合起作用，并施加隨所述納米結構雙層在所述柔性聚合物膜上的位置變化的光相位偏移。納米結構雙層的光相位偏移限定了所述光學超表面膜的預定操作相位分布。
本發明授權光學超表面膜在權利要求書中公布了：1.一種光學超表面膜，包括：具有第一主表面的柔性聚合物膜；圖案化聚合物層，所述圖案化聚合物層具有鄰近所述柔性聚合物膜的所述第一主表面的第一表面、并且具有與所述第一表面相對的第二納米結構表面；以及折射率對比度層，所述折射率對比度層包括與所述圖案化聚合物層的所述納米結構表面相鄰的折射率對比度材料，從而形成具有納米結構界面的納米結構雙層，所述納米結構雙層包括設置在所述柔性聚合物膜上的多個納米結構，其中所述納米結構雙層局部地對光的振幅、相位或偏振或其組合起作用，并施加隨所述納米結構雙層在所述柔性聚合物膜上的位置變化的光相位偏移，并且所述納米結構雙層的光相位偏移限定了所述光學超表面膜的預定操作相位分布，其中，所述折射率對比度材料包括金屬氧化物或金屬氮化物。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人3M創新有限公司;哈佛大學校長及研究員協會，其通訊地址為：美國明尼蘇達州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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