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龍圖騰網(wǎng)獲悉3M創(chuàng)新有限公司;哈佛大學(xué)校長及研究員協(xié)會申請的專利光學(xué)超表面膜獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114829986B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080081707.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G02B1/00；該發(fā)明授權(quán)光學(xué)超表面膜是由馬丁·B·沃克;羅伯特·L·布勞特;卡爾·K·斯滕斯瓦德;詹姆士·M·納爾遜;費(fèi)德里科·卡帕索;X·尹;J-S·樸設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-12-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本光學(xué)超表面膜在說明書摘要公布了：一種光學(xué)超表面膜，包括：具有第一主表面的柔性聚合物膜；圖案化聚合物層，其具有鄰近所述柔性聚合物膜的所述第一主表面的第一表面并且具有與所述第一表面相對的第二納米結(jié)構(gòu)表面；以及折射率對比度層，其與所述圖案化聚合物層的所述納米結(jié)構(gòu)表面相鄰，從而形成具有納米結(jié)構(gòu)界面的納米結(jié)構(gòu)雙層。納米結(jié)構(gòu)雙層局部地對光的振幅、相位或偏振或其組合起作用，并施加隨所述納米結(jié)構(gòu)雙層在所述柔性聚合物膜上的位置變化的光相位偏移。納米結(jié)構(gòu)雙層的光相位偏移限定了所述光學(xué)超表面膜的預(yù)定操作相位分布。

本發(fā)明授權(quán)光學(xué)超表面膜在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光學(xué)超表面膜，包括：具有第一主表面的柔性聚合物膜；圖案化聚合物層，所述圖案化聚合物層具有鄰近所述柔性聚合物膜的所述第一主表面的第一表面、并且具有與所述第一表面相對的第二納米結(jié)構(gòu)表面；以及折射率對比度層，所述折射率對比度層包括與所述圖案化聚合物層的所述納米結(jié)構(gòu)表面相鄰的折射率對比度材料，從而形成具有納米結(jié)構(gòu)界面的納米結(jié)構(gòu)雙層，所述納米結(jié)構(gòu)雙層包括設(shè)置在所述柔性聚合物膜上的多個納米結(jié)構(gòu)，其中所述納米結(jié)構(gòu)雙層局部地對光的振幅、相位或偏振或其組合起作用，并施加隨所述納米結(jié)構(gòu)雙層在所述柔性聚合物膜上的位置變化的光相位偏移，并且所述納米結(jié)構(gòu)雙層的光相位偏移限定了所述光學(xué)超表面膜的預(yù)定操作相位分布，其中，所述折射率對比度材料包括金屬氧化物或金屬氮化物。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人3M創(chuàng)新有限公司;哈佛大學(xué)校長及研究員協(xié)會，其通訊地址為：美國明尼蘇達(dá)州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。