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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會(huì)社日立高新技術(shù)申請的專利離子源、質(zhì)譜儀、離子源控制方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115104173B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080096365.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J49/04；該發(fā)明授權(quán)離子源、質(zhì)譜儀、離子源控制方法是由長谷川英樹;杉山益之;橋本雄一郎設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-12-04向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本離子源、質(zhì)譜儀、離子源控制方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明的目的在于提供一種能夠準(zhǔn)確且高效地掌握毛細(xì)管下游側(cè)的前端位置是否適當(dāng)?shù)碾x子源及其控制方法。本發(fā)明的離子源在未對毛細(xì)管導(dǎo)入試樣時(shí)，測量電源對毛細(xì)管施加電壓而產(chǎn)生的電流，在上述電流處于容許范圍內(nèi)的情況下，輸出表示上述毛細(xì)管的露出量適當(dāng)?shù)囊馑嫉穆冻隽啃畔ⅲ诓惶幱谏鲜鋈菰S范圍內(nèi)的情況下，輸出表示上述突出量不適當(dāng)?shù)囊馑嫉纳鲜鐾怀隽啃畔⒄請D1。

本發(fā)明授權(quán)離子源、質(zhì)譜儀、離子源控制方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種離子源控制方法，其特征在于，是控制對試樣進(jìn)行離子化的離子源的控制方法，所述離子源具備：毛細(xì)管，其通過包含所述試樣的溶液，離子源室，其容納所述毛細(xì)管的尖端部分，電源，其對所述毛細(xì)管施加電壓，電流計(jì)，其測量在未對所述毛細(xì)管導(dǎo)入所述試樣時(shí)所述電源對所述毛細(xì)管施加電壓而產(chǎn)生的電流，氣體噴霧管，其容納所述毛細(xì)管的至少一部分并噴射使所述毛細(xì)管所噴射的物質(zhì)氣化的氣體，第二驅(qū)動(dòng)部，其通過使所述氣體噴霧管移動(dòng)來調(diào)整下述突出量；所述離子源控制方法包括輸出突出量信息的步驟，所述突出量信息表示所述毛細(xì)管的前端部分相對于所述離子源室內(nèi)的空間突出的突出量是否適當(dāng)，在輸出所述突出量信息的步驟中，在所述電流計(jì)測量的所述電流處于容許范圍內(nèi)的情況下，輸出表示所述突出量適當(dāng)?shù)囊馑嫉乃鐾怀隽啃畔ⅲ诓惶幱谒鋈菰S范圍內(nèi)的情況下，輸出表示所述突出量不適當(dāng)?shù)囊馑嫉乃鐾怀隽啃畔ⅲ鲭x子源控制方法還包括：在所述電流計(jì)測量的所述電流不在所述容許范圍內(nèi)的情況下，利用所述第二驅(qū)動(dòng)部來使所述氣體噴霧管移動(dòng)，從而調(diào)整所述突出量的步驟，在調(diào)整了所述突出量之后，所述電流計(jì)測量的所述電流處于所述容許范圍內(nèi)的情況下，輸出表示所述突出量適當(dāng)?shù)囊馑嫉乃鐾怀隽啃畔ⅲ诓惶幱谒鋈菰S范圍內(nèi)的情況下，輸出表示所述突出量不適當(dāng)?shù)囊馑嫉乃鐾怀隽啃畔⒌牟襟E。

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