東京毅力科創(chuàng)株式會社須川直樹獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利載置臺和等離子體處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113097044B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202011578696.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)載置臺和等離子體處理裝置是由須川直樹設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-12-28向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本載置臺和等離子體處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供載置臺和等離子體處理裝置。能夠用一個密封構(gòu)件保護高度不同的多個粘接層。載置臺具有第1載置部、第2載置部、第1粘接層、第2粘接層以及密封構(gòu)件。第1載置部用于載置基板。第2載置部低于第1載置部，用于載置包圍基板的周緣的邊緣環(huán)。第1粘接層粘接基臺和第1載置部。第2粘接層粘接基臺和第2載置部。密封構(gòu)件在比第1粘接層靠上側(cè)的位置與第1載置部接觸，在比第2粘接層靠上側(cè)的位置與第2載置部接觸，并通過變形將第1載置部與第2載置部之間堵塞。
本發(fā)明授權(quán)載置臺和等離子體處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種載置臺，其中，該載置臺具有：第1載置部，其用于載置基板；第2載置部，其低于所述第1載置部，用于載置包圍所述基板的周緣的邊緣環(huán)；第1粘接層，其粘接基臺和所述第1載置部；第2粘接層，其粘接所述基臺和所述第2載置部；以及密封構(gòu)件，其在比所述第1粘接層靠上側(cè)的位置與所述第1載置部接觸，在比所述第2粘接層靠上側(cè)的位置與所述第2載置部接觸，并通過變形將所述第1載置部與所述第2載置部之間堵塞。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據(jù)或者憑證。
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