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龍圖騰網恭喜電子科技大學申請的專利一種存在位置誤差的陣列功率方向圖容差分析方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115563753B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211168959.7，技術領域涉及：G06F30/20；該發明授權一種存在位置誤差的陣列功率方向圖容差分析方法是由張瑛;丁汀;胡亞捷;梁博軒;文雨農設計研發完成，并于2022-09-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種存在位置誤差的陣列功率方向圖容差分析方法在說明書摘要公布了：本發明屬于天線陣列技術領域，具體涉及一種存在位置誤差的陣列功率方向圖容差分析方法。本發明提出了一種基于泰勒展開的技術，用于具有陣元位置誤差的陣列功率方向圖容差分析，并以解析形式推導出受位置誤差影響下的陣列功率方向圖的上下界限。所提出的技術由于僅涉及對位置變量的一階偏導與位置擾動量，具有易于實現和無條件判斷等優點。經過算例驗證，相較于區間算術，通過泰勒展開計算得到的功率方向圖邊界具有更高的可靠性與穩健性，同時有效提升了對方向圖性能參數邊界的預測性能，相關結果可為工程中的天線陣列實踐提供一定理論參考。

本發明授權一種存在位置誤差的陣列功率方向圖容差分析方法在權利要求書中公布了：1.一種存在位置誤差的陣列功率方向圖容差分析方法，用于具有N個陣元組成的線性天線陣列，定義實際的陣列位置向量為d＝[d1,d2,...,dN]T，其特征在于，包括以下步驟：步驟1、確定受誤差影響的陣列陣元位置區間，具體為：定義由N個區間參數組成的區間向量dI：d∈dI＝[dL,dU]＝[dc-△d,dc+△d]其中·I代表區間，和分別是位置區間的下邊界和上邊界，為位置的理論設置值，△d＝[△d1,△d2,...,△dN]T表示受誤差影響下位置的最大偏移量，△d＝dU-dL2；步驟2、確定陣列構型，包括陣元數、陣元間距、工作頻率、排布方式，從而獲得陣列的遠場功率方向圖函數Pθ： 其中和AFζθ分別表示陣列因子AFθ的實部與虛部，Θnθ為第n個陣元的相位，Θnθ＝k0dnsinθ-sinθ0，an為第n個陣元的激勵幅度，θ0為陣列的波束指向，k0＝2πλ為空間波數，λ為波長，θ為陣列的觀測角；步驟3、在步驟1給出的位置區間參數的可行域中，在每一個觀測角度下，建立功率方向圖的容差分析模型： st.d∈dI步驟4、對存在位置誤差的功率方向圖函數在各陣元位置的理論值處執行一階泰勒展開： 其中為方向圖函數在理論位置的取值,為對各陣元位置的一階偏導數組成的向量，o2為余項；步驟5、計算步驟4泰勒展開式中的各項，其中一階偏導數由下式計算： 步驟6、分析誤差對方向圖產生的最大影響時的位置變量的取值，具體為根據步驟5給出的一階泰勒展式中的一次函數關系，取位置區間的端點處{-△dn,△dn,n＝1,...,N}計算誤差對方向圖產生的最大影響的取值，即當取當取步驟7：根據步驟6中區間變量的取值，得到功率方向圖函數在位置誤差影響下的上界PLθ與下界PUθ： 得到每個角度下的功率方向圖函數在位置誤差影響下的上界與下界從而完成容差分析。

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