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龍圖騰網恭喜華海清科股份有限公司申請的專利用于金屬CMP的晶圓監測方法、CMP設備、計算機存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119347634B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411898257.3，技術領域涉及：B24B37/005；該發明授權用于金屬CMP的晶圓監測方法、CMP設備、計算機存儲介質是由張叢;王同慶;路新春;張美潔設計研發完成，并于2024-12-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于金屬CMP的晶圓監測方法、CMP設備、計算機存儲介質在說明書摘要公布了：本申請實施例提供了一種用于金屬CMP的晶圓監測方法、CMP設備、計算機存儲介質，該方法包括：在CMP設備對晶圓的金屬層進行化學機械拋光的過程中，獲取圖像采集器采集到的至少一個第一圖像，以及在垂直于拋光墊的方向上電渦流傳感器與晶圓相對時，電渦流傳感器采集到的晶圓信號，其中，CMP設備包括拋光頭、拋光墊和供液臂，拋光頭用于帶動晶圓抵接在拋光墊的拋光面上，供液臂用于向拋光面提供拋光液，圖像采集器用于采集拋光墊上靠近拋光頭處由拋光液形成的弓波的圖像；根據至少一個第一圖像中的弓波的寬度，以及晶圓信號，確定晶圓相對于拋光頭是否已發生滑片。本方案可以使對晶圓滑片進行監測的監測結果更加準確。

本發明授權用于金屬CMP的晶圓監測方法、CMP設備、計算機存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種用于金屬CMP的晶圓監測方法，其特征在于，包括：在CMP設備對晶圓的金屬層進行化學機械拋光的過程中，獲取圖像采集器采集到的至少一個第一圖像，以及在垂直于拋光墊的方向上電渦流傳感器與所述晶圓相對時，所述電渦流傳感器采集到的晶圓信號，其中，所述CMP設備包括拋光頭、拋光墊和供液臂，所述拋光頭用于帶動所述晶圓抵接在所述拋光墊的拋光面上，所述供液臂用于向所述拋光面提供拋光液，所述圖像采集器用于采集所述拋光墊上靠近所述拋光頭處由拋光液形成的弓波的圖像；若所述晶圓信號的信號強度小于強度閾值，或者所述晶圓信號的信號強度斜率的絕對值大于斜率閾值，則確定所述晶圓信號符合第一滑片條件；若所述晶圓信號符合第一滑片條件，則確定所述至少一個第一圖像中的弓波的寬度是否符合第二滑片條件；若所述至少一個第一圖像中的弓波的寬度符合第二滑片條件，則確定所述晶圓相對于所述拋光頭已發生滑片；若確定所述晶圓相對于所述拋光頭已發生滑片，則結束所述化學機械拋光；所述方法還包括：在所述CMP設備對晶圓的金屬層進行化學機械拋光的過程中，根據在垂直于所述拋光墊的方向上所述電渦流傳感器與所述晶圓相對時所述電渦流傳感器采集到的晶圓信號，確定是否已達到所述化學機械拋光的時間終點；若已達到所述化學機械拋光的時間終點，則結束所述化學機械拋光。

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