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龍圖騰網(wǎng)恭喜新恒匯電子股份有限公司申請的專利具有內(nèi)伸引腳的引線框架的加工方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119381262B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202411931355.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/48；該發(fā)明授權(quán)具有內(nèi)伸引腳的引線框架的加工方法是由馬偉凱;朱軍;任志軍;黃偉;朱林;李昌文設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-12-26向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本具有內(nèi)伸引腳的引線框架的加工方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種具有內(nèi)伸引腳的引線框架的加工方法，涉及引線框架加工技術(shù)領(lǐng)域。包括步驟一：在銅材正面和銅材背面分別貼覆一層干膜；步驟二：分別照射銅材正面和銅材背面的部分干膜，形成相應(yīng)的正面聚合抗蝕干膜和背面聚合抗蝕干膜；步驟三：洗掉銅材正面和銅材背面上未曝光的干膜，顯露出正面聚合抗蝕干膜和背面聚合抗蝕干膜；步驟四：對銅材正面和銅材背面分別噴淋蝕刻液進(jìn)行蝕刻，以形成位于銅材正面內(nèi)側(cè)的若干個內(nèi)伸引腳。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中通過傳統(tǒng)工藝加工具有內(nèi)伸引腳的引線框架，會使得內(nèi)伸引腳存在著引腳強(qiáng)度弱、支撐力差的缺陷，以及可能會導(dǎo)致引線框架在封裝時焊線異常，最終會影響引線框架的生產(chǎn)效率和產(chǎn)品良率的問題。

本發(fā)明授權(quán)具有內(nèi)伸引腳的引線框架的加工方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種具有內(nèi)伸引腳的引線框架的加工方法，其特征在于，包括如下步驟：步驟一：壓膜；在銅材1正面和銅材1背面分別貼覆一層干膜2；步驟二：曝光；分別照射銅材1正面和銅材1背面的部分干膜2，形成相應(yīng)的正面聚合抗蝕干膜6和背面聚合抗蝕干膜7；步驟三：顯影；洗掉銅材1正面和銅材1背面上未曝光的干膜2，顯露出正面聚合抗蝕干膜6和背面聚合抗蝕干膜7；步驟四：蝕刻；對銅材1正面和銅材1背面分別噴淋蝕刻液5進(jìn)行蝕刻，以形成位于銅材1正面內(nèi)側(cè)的若干個內(nèi)伸引腳4；所述步驟二中，正面聚合抗蝕干膜6包括若干個不連接的正面保護(hù)單元61，每兩個正面保護(hù)單元61之間形成一個正面保護(hù)間隙62；背面聚合抗蝕干膜7包括若干個不連接的背面保護(hù)單元71，每兩個背面保護(hù)單元71之間形成一個背面保護(hù)間隙；若干個正面保護(hù)單元61和若干個背面保護(hù)單元71錯位相對，每個正面保護(hù)單元61的正下方均同時存在有背面保護(hù)單元71和背面保護(hù)間隙；若干個所述正面保護(hù)單元61的長度一致，若干個所述正面保護(hù)間隙62的長度一致；若干個所述背面保護(hù)單元71的長度一致，若干個所述背面保護(hù)間隙按照兩種長度分為若干個背面保護(hù)間隙Ⅰ72和若干個背面保護(hù)間隙Ⅱ73；若干個背面保護(hù)單元71兩兩分為一個保護(hù)單元組，每兩個保護(hù)單元組之間為背面保護(hù)間隙Ⅱ73，每個保護(hù)單元組中的兩個背面保護(hù)單元71之間為背面保護(hù)間隙Ⅰ72；若干個所述背面保護(hù)間隙Ⅰ72分別位于若干個所述正面保護(hù)單元61的正下方，若干個所述背面保護(hù)間隙Ⅱ73分別位于若干個正面保護(hù)間隙62的正下方。

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