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龍圖騰網恭喜蘇州鎂伽科技有限公司申請的專利一種晶圓檢測方法及晶圓檢測系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119375150B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411933562.1，技術領域涉及：G01N21/01；該發明授權一種晶圓檢測方法及晶圓檢測系統是由夏磊設計研發完成，并于2024-12-26向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種晶圓檢測方法及晶圓檢測系統在說明書摘要公布了：本申請提供一種晶圓檢測方法及晶圓檢測系統，獲取通過探測器探測到的第一光斑位置以及第二光斑位置；基于第一光斑位置和第二光斑位置，調整輔助反射鏡的第一傾斜度，以使第一光斑位置和第二光斑位置重合；通過探測器探測到的邁克爾遜干涉條紋，調整輔助反射鏡的第一軸向距離；將參考物鏡、測量物鏡和第三透鏡加入光路中，通過探測到的林尼克干涉條紋調整參考物鏡的第二傾斜度和第一偏心距離；將輔助反射鏡替換為參考反射鏡，參考反射鏡與參考物鏡固定在同一機械件上。通過額外引入一個獨立的輔助反射鏡，輔助反射鏡的調配自由度更高，不會被參考物鏡所干擾，能夠實現參考物鏡和參考反射鏡的裝調維度的解耦，提高裝調效率和準確度。

本發明授權一種晶圓檢測方法及晶圓檢測系統在權利要求書中公布了：1.一種晶圓檢測方法，其特征在于，所述方法包括：在配置光源（101）、第一透鏡（102）、分束器（103）、待測晶圓（105）、第二透鏡（108）和探測器（111）位于光路中時，獲取通過所述探測器（111）探測到的第一光斑位置，以及在配置所述光源（101）、所述第一透鏡（102）、所述分束器（103）、輔助反射鏡（1071）、第二透鏡（108）、和所述探測器（111）位于光路中時，獲取通過所述探測器（111）探測到的第二光斑位置；基于所述第一光斑位置和所述第二光斑位置，調整所述輔助反射鏡（1071）的第一傾斜度，以使所述第一光斑位置和所述第二光斑位置重合；在配置所述光源（101）、所述第一透鏡（102）、所述分束器（103）、所述輔助反射鏡（1071）、所述待測晶圓（105）、所述第二透鏡（108）和所述探測器（111）位于光路中時，通過所述探測器（111）探測到的邁克爾遜干涉條紋，調整所述輔助反射鏡（1071）的第一軸向距離；在配置所述光源（101）、所述第一透鏡（102）、所述分束器（103）、所述輔助反射鏡（1071）、所述待測晶圓（105）、所述第二透鏡（108）、所述探測器（111）、參考物鏡（106）、測量物鏡（104）和第三透鏡（110）位于光路中時，通過探測到的林尼克干涉條紋調整所述參考物鏡（106）的第二傾斜度和第一偏心距離；將所述輔助反射鏡（1071）替換為參考反射鏡（1072），所述參考反射鏡（1072）與所述參考物鏡（106）固定在同一機械件上。

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