恭喜中國人民解放軍國防科技大學石峰獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜中國人民解放軍國防科技大學申請的專利基于頻域分析的大口徑光柵掃描刻蝕周期誤差抑制方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119557550B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510116951.3，技術領域涉及：G06F17/15；該發明授權基于頻域分析的大口徑光柵掃描刻蝕周期誤差抑制方法是由石峰;周港;彭星;田野;鞏保啟;郭雙鵬設計研發完成，并于2025-01-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于頻域分析的大口徑光柵掃描刻蝕周期誤差抑制方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于頻域分析的大口徑光柵掃描刻蝕周期誤差抑制方法，本發明方法包括S1，形成路徑函數；S2，計算去除量分布；S3，進行功率譜密度分析以獲得頻譜幅值；S4，提取頻率；S5，計算頻率下的掃描行距；S6，形成新的掃描路徑；S7，對大口徑光柵樣件進行加工；S8，判斷大口徑光柵樣件是否滿足要求，若滿足要求則結束并退出，否則提取頻譜中誤差高于圖紙誤差的頻率分布的頻譜幅值，跳轉執行S4。本發明旨在解決現有的大口徑掃描刻蝕工藝效率過低、易產生濺射污染的問題，提高大口徑光學元件的加工效率和加工質量。
本發明授權基于頻域分析的大口徑光柵掃描刻蝕周期誤差抑制方法在權利要求書中公布了：1.一種基于頻域分析的大口徑光柵掃描刻蝕周期誤差抑制方法，其特征在于，包括：步驟S1，初步確定初始的換行行距并形成路徑函數；步驟S2，根據路徑函數和去除函數計算去除量分布；步驟S3，對去除量分布進行功率譜密度分析以獲得初始的頻譜幅值；步驟S4，提取當前的頻譜幅值最小時的頻率；步驟S5，根據計算頻率下對應的掃描行距；步驟S6，利用頻率下對應的掃描行距形成新的掃描路徑；步驟S7，利用新的掃描路徑對大口徑光柵樣件進行掃描刻蝕加工；步驟S8，判斷大口徑光柵樣件的表面溝槽深度分布是否滿足要求，若滿足要求則結束并退出，否則提取頻譜中誤差高于圖紙誤差的頻率分布的頻譜幅值作為新的當前的頻譜幅值，跳轉執行步驟S4繼續進行迭代。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國人民解放軍國防科技大學，其通訊地址為：410073 湖南省長沙市開福區德雅路109號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號