恭喜西安稀有金屬材料研究院有限公司楊薇弘獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜西安稀有金屬材料研究院有限公司申請的專利光交聯型陰離子交換膜及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119725644B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510221036.0,技術領域涉及:H01M8/1072;該發明授權光交聯型陰離子交換膜及其制備方法是由楊薇弘;謝龍飛;宰偉;呂英威;王凱;樊光嬈;吳金平設計研發完成,并于2025-02-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本光交聯型陰離子交換膜及其制備方法在說明書摘要公布了:本公開是關于一種光交聯型陰離子交換膜及其制備方法,涉及陰離子交換膜技術領域。該方法包括:S10、獲得含乙烯基咪唑鎓結構的第一聚合物;第一聚合物包括摩爾比為(0.7~1.5):1的苯乙烯重復單元和乙烯基咪唑鎓修飾的苯乙烯重復單元;S20、將第一聚合物與苯醚聚合物按照質量比(1~9):1加入第一有機溶劑溶解后,加入光交聯劑和光引發劑,攪拌0.5~3h,獲得陰離子交換膜前驅體;S30、將陰離子交換膜前驅體平鋪于容器中進行光交聯反應,獲得光交聯型陰離子交換膜。本公開制備方法獲得的光交聯型陰離子交換膜高溫下溶脹比低,具有較高的尺寸穩定性。
本發明授權光交聯型陰離子交換膜及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種光交聯型陰離子交換膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:S10、獲得含乙烯基咪唑鎓結構的第一聚合物;所述第一聚合物包括苯乙烯重復單元和乙烯基咪唑鎓修飾的苯乙烯重復單元;苯乙烯重復單元的結構式為: ;乙烯基咪唑鎓修飾的苯乙烯重復單元的結構式為: ;其中,所述苯乙烯重復單元與乙烯基咪唑鎓修飾的苯乙烯重復單元的摩爾比為(0.7~1.5):1;S20、將第一聚合物與聚苯醚按照質量比(1~9):1加入第一有機溶劑溶解后,加入光交聯劑和光引發劑,攪拌0.5~3h,獲得陰離子交換膜前驅體;所述光交聯劑的結構式為: ;其中,R為含有3~15個碳的亞甲基;S30、將陰離子交換膜前驅體平鋪于容器中并暴露于365nm紫外光下10~30min后,在50~120oC下熱處理12~48h,獲得光交聯型陰離子交換膜;其中,步驟S10中,所述獲得含乙烯基咪唑鎓結構的第一聚合物包括:S101、將苯乙烯與對氯甲基苯乙烯加入第二有機溶劑,獲得第一混合溶液;其中,所述苯乙烯與對氯甲基苯乙烯的質量比為(0.5~1):1;S102、在第一混合溶液中加入自由基聚合引發劑反應10~12h后,分批加至第一沉淀劑中,獲得共聚物;所述自由基聚合引發劑的質量為所述第一混合溶液的質量的0.1%~10%;S103、所述共聚物溶解于第三有機溶劑,加入乙烯基咪唑,在50~80℃下反應24~48h后,分批加至第二沉淀劑中,獲得含乙烯基咪唑鎓結構的第一聚合物;其中,所述乙烯基咪唑的質量與共聚物的質量比為(1~7):10。
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