恭喜朗姆研究公司包新宇獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利使用亞穩的活化自由基物質的原子層處理工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112673456B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980059258.X，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權使用亞穩的活化自由基物質的原子層處理工藝是由包新宇;方浩權設計研發完成，并于2019-08-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本使用亞穩的活化自由基物質的原子層處理工藝在說明書摘要公布了：一種襯底的暴露表面的處理方法包含使用清掃氣體清掃襯底處理系統的第一室和第二室。氣體分配裝置設置在第一室與第二室之間。該方法包含使處理氣體流至第二室但不流至第一室，以在設置于第二室中的襯底支撐件上的襯底的表面上產生吸附層。該方法包含停止處理氣體向第二室流動。該方法包含使清掃氣體流動以清掃第一室和第二室。該方法包含在使清掃氣體流至第一室時，在第一室中激勵等離子體以產生亞穩的活化自由基物質，并經由氣體分配裝置將該亞穩的活化自由基物質輸送至第二室以表面活化吸附層。
本發明授權使用亞穩的活化自由基物質的原子層處理工藝在權利要求書中公布了：1.一種用于處理襯底的暴露表面的方法，其包含：a使用清掃氣體清掃襯底處理系統的第一室和第二室，其中氣體分配裝置設置在所述第一室與所述第二室之間；b在a之后，使處理氣體流至所述第二室但不流至所述第一室，以在設置于所述第二室中的襯底支撐件上的襯底的表面上產生吸附層；c停止所述處理氣體向所述第二室流動；d使所述清掃氣體流動，以清掃所述第一室和所述第二室；以及e在使所述清掃氣體流至所述第一室時，在所述第一室中激勵等離子體以產生亞穩的活化自由基物質，并經由所述氣體分配裝置將所述亞穩的活化自由基物質輸送至所述第二室以表面活化所述吸附層；其中，所述氣體分配裝置限定充氣腔且包括第一多個通孔和第二多個通孔，所述第一多個通孔是從所述氣體分配裝置的上表面至所述氣體分配裝置的下表面，所述第二多個通孔是從所述充氣腔至所述下表面。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號