恭喜臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司林志昌獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體裝置及集成電路的制作方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN110943042B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:201910822738.9,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D84/03;該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體裝置及集成電路的制作方法是由林志昌;吳偉豪;余佳霓;王志豪;江國(guó)誠(chéng)設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2019-09-02向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本半導(dǎo)體裝置及集成電路的制作方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體裝置及集成電路的制作方法,在一些例子中,集成電路的制作方法包括接收工件,且工件包括基板與自基板延伸的多個(gè)鰭狀物,形成第一層于鰭狀物的每一者的側(cè)表面上,使第一層界定的溝槽延伸于鰭狀物之間,形成切割結(jié)構(gòu)于溝槽中,形成第一柵極結(jié)構(gòu)于鰭狀物的第一鰭狀物上,并形成第二柵極結(jié)構(gòu)于鰭狀物的第二鰭狀物上,使切割結(jié)構(gòu)位于第一柵極結(jié)構(gòu)與第二柵極結(jié)構(gòu)之間。
本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體裝置及集成電路的制作方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種集成電路的制作方法,包括:接收一工件,且該工件包括一基板與自該基板延伸的多個(gè)鰭狀物;形成一第一層于多個(gè)所述鰭狀物的每一者的側(cè)表面上,使該第一層界定的一溝槽延伸于多個(gè)所述鰭狀物之間;形成一切割結(jié)構(gòu)于該溝槽中;形成一第一柵極結(jié)構(gòu)于多個(gè)所述鰭狀物的一第一鰭狀物上,并形成一第二柵極結(jié)構(gòu)于多個(gè)所述鰭狀物的一第二鰭狀物上,使該切割結(jié)構(gòu)位于該第一柵極結(jié)構(gòu)與該第二柵極結(jié)構(gòu)之間;使該第一柵極結(jié)構(gòu)與該第二柵極結(jié)構(gòu)凹陷;以及形成一介電層于該第一柵極結(jié)構(gòu)與該第二柵極結(jié)構(gòu)上,其中該切割結(jié)構(gòu)延伸至該介電層中。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司,其通訊地址為:中國(guó)臺(tái)灣新竹市;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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