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恭喜三星電子株式會社金炳勛獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜三星電子株式會社申請的專利襯底處理設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111987016B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010447216.8,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權襯底處理設備是由金炳勛;孔炳煥;裴承龍;安在鉉設計研發完成,并于2020-05-25向國家知識產權局提交的專利申請。

襯底處理設備在說明書摘要公布了:一種襯底處理設備,包括:工藝腔室;支撐部,其設置在工藝腔室中,具有其中安置有襯底的襯底裝載區;加熱部,其設置在與襯底裝載區相對的位置中以加熱襯底裝載區;以及反射構件,其設置在工藝腔室中的與襯底裝載區相對的位置中,密封中空部設置在所述反射構件中。

本發明授權襯底處理設備在權利要求書中公布了:1.一種襯底處理設備,包括:工藝腔室;支撐部,其位于所述工藝腔室中,所述支撐部包括襯底裝載區,所述襯底裝載區被構造為支撐安置在所述襯底裝載區中的襯底;加熱部,其被構造為加熱所述襯底裝載區;以及反射構件,其在所述工藝腔室中鄰近于所述襯底裝載區,并且被構造為將從所述襯底裝載區發散的熱量反射到所述襯底,所述反射構件具有位于所述反射構件中的密封中空部,所述密封中空部被構造為改善所述反射構件的熱反射效率,其中,所述反射構件包括限定所述密封中空部的第一內表面、第二內表面和內側表面,所述第一內表面面對所述襯底裝載區,所述第二內表面與所述第一內表面相對,并且所述內側表面連接所述第一內表面和所述第二內表面,所述反射構件包括具有第一反射率的反射性材料,并且所述第一內表面和所述第二內表面中的至少一個包括涂覆在其上的具有第二反射率的材料,所述第二反射率高于所述第一反射率。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人三星電子株式會社,其通訊地址為:韓國京畿道;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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