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龍圖騰網(wǎng)恭喜高級(jí)磁互作用公司(AMI)申請(qǐng)的專利控制圖形界面以在虛擬環(huán)境中顯示投射物的投出的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114556266B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080051987.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F3/01；該發(fā)明授權(quán)控制圖形界面以在虛擬環(huán)境中顯示投射物的投出的方法是由索菲·博諾;羅曼·切斯尼;珍-瑪麗·杜普雷拉圖爾;特里斯坦·奧森;翁斯·芒舒;西蒙·托馬斯;珍-皮埃爾·特拉韋奧設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-07-16向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本控制圖形界面以在虛擬環(huán)境中顯示投射物的投出的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種用于控制圖形界面2以在虛擬環(huán)境Ev中顯示投射器10的數(shù)字表示31的圖像的方法，所述投射器包括配備有磁體15的投射臂12。磁力計(jì)Mi陣列測(cè)量由所述磁體15生成的磁場，虛擬參考系Rv中的所述投射臂12的狀態(tài)矢量被確定，并且投射物在所述虛擬參考系Rv中的待命和然后的發(fā)射階段被識(shí)別。則構(gòu)造圖像并在所述圖形界面2上顯示該圖像。

本發(fā)明授權(quán)控制圖形界面以在虛擬環(huán)境中顯示投射物的投出的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于控制圖形界面2以在虛擬環(huán)境Ev中顯示稱作投射器10的三維物體的數(shù)字表示31的圖像的方法，所述投射器10被設(shè)計(jì)為在虛擬環(huán)境Ev中投出投射物32，并包括由非磁性材料制成的結(jié)構(gòu)11，投射臂12以可移動(dòng)且運(yùn)動(dòng)受限的方式組裝到該結(jié)構(gòu)，磁體15固定到所述投射臂12，所述方法由計(jì)算單元22實(shí)施，所述方法包括以下步驟：o提供用于在跟蹤區(qū)域ZS中定位所述投射器10的定位設(shè)備20，其包括：·固定到支撐表面Sa的磁力計(jì)陣列；·連接到所述磁力計(jì)陣列和圖形界面的所述計(jì)算單元22；·用于跟蹤所述投射器相對(duì)于磁力計(jì)陣列的預(yù)先限定的跟蹤區(qū)域Zs，以及與所述跟蹤區(qū)域相關(guān)聯(lián)的實(shí)際三維參考系Rr；o在所述計(jì)算單元22中存儲(chǔ)：·數(shù)字文件25，其在虛擬三維參考系Rv中編碼所述虛擬環(huán)境Ev，所述虛擬三維參考系Rv通過預(yù)先限定的映射關(guān)系F關(guān)聯(lián)到所述實(shí)際三維參考系Rr；·數(shù)字模型26，其使得能夠?qū)⒈硎舅鐾渡浔墼谔摂M三維參考系Rv中的位置和或取向的所述投射臂12的狀態(tài)矢量Xb|v與表示所述磁體在實(shí)際三維參考系Rr中的位置和取向的所述磁體15的狀態(tài)矢量Xa|r相關(guān)聯(lián)，并使得能夠獲得所述投射器在虛擬三維參考系Rv中的數(shù)字表示31；o由使用者操作所述投射臂12，所述投射器位于跟蹤區(qū)域中并布置為與支撐表面接觸，所述投射臂能夠被使用者從靜止位置移開，復(fù)位部件則在所述投射臂上向所述靜止位置的方向施加復(fù)位力；o由所述磁力計(jì)陣列測(cè)量由所述磁體15在相繼的不同測(cè)量時(shí)刻tn生成的磁場；o在所述測(cè)量時(shí)刻tn，基于由所述磁體生成的磁場的測(cè)量值，確定所述磁體在實(shí)際三維參考系Rr中的狀態(tài)矢量Xa|r；o在所述測(cè)量時(shí)刻tn，基于預(yù)先存儲(chǔ)的所述數(shù)字模型26和所確定的狀態(tài)矢量Xa|r確定所述投射臂12在虛擬三維參考系Rv中的狀態(tài)矢量Xb|v，以及基于預(yù)先存儲(chǔ)的所述數(shù)字模型26和所確定的狀態(tài)矢量Xb|v確定所述投射物32的位置Pp|v；o根據(jù)在所述測(cè)量時(shí)刻tn和先前測(cè)量時(shí)刻的狀態(tài)矢量Xb|v限定的待命因子K1，識(shí)別所述投射臂12的待命階段A，在所述待命因子K1大于或等于預(yù)定閾值K1S時(shí)，識(shí)別到所述待命階段A；o當(dāng)識(shí)別到所述待命階段A時(shí)，根據(jù)在所述測(cè)量時(shí)刻tn由狀態(tài)矢量Xb|v限定的投射因子K2，識(shí)別所述投射物32的發(fā)射，當(dāng)所述投射因子K2大于或等于預(yù)定閾值K2S時(shí)，識(shí)別到所述投射物32的發(fā)射；o當(dāng)識(shí)別到所述投射物32的發(fā)射時(shí)，確定在之后的測(cè)量時(shí)刻的所述投射物32在虛擬三維參考系Rv中的相繼位置Pp|v；o基于所述投射臂的所確定的狀態(tài)矢量Xb|v和所述投射物的所確定的位置Pp|v，構(gòu)造在所述虛擬三維參考系Rv中表示所述虛擬環(huán)境Ev、所述投射器的數(shù)字表示31和所述投射物32的二維圖像，然后通過所述計(jì)算單元22控制圖形界面2，以顯示所構(gòu)造的圖像。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人高級(jí)磁互作用公司(AMI)，其通訊地址為：法國塞西內(nèi)-帕里塞；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。