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龍圖騰網獲悉高級磁互作用公司(AMI)申請的專利控制圖形界面以在虛擬環境中顯示投射物的投出的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114556266B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080051987.3，技術領域涉及：G06F3/01；該發明授權控制圖形界面以在虛擬環境中顯示投射物的投出的方法是由索菲·博諾;羅曼·切斯尼;珍-瑪麗·杜普雷拉圖爾;特里斯坦·奧森;翁斯·芒舒;西蒙·托馬斯;珍-皮埃爾·特拉韋奧設計研發完成，并于2020-07-16向國家知識產權局提交的專利申請。

本控制圖形界面以在虛擬環境中顯示投射物的投出的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種用于控制圖形界面2以在虛擬環境Ev中顯示投射器10的數字表示31的圖像的方法，所述投射器包括配備有磁體15的投射臂12。磁力計Mi陣列測量由所述磁體15生成的磁場，虛擬參考系Rv中的所述投射臂12的狀態矢量被確定，并且投射物在所述虛擬參考系Rv中的待命和然后的發射階段被識別。則構造圖像并在所述圖形界面2上顯示該圖像。

本發明授權控制圖形界面以在虛擬環境中顯示投射物的投出的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于控制圖形界面2以在虛擬環境Ev中顯示稱作投射器10的三維物體的數字表示31的圖像的方法，所述投射器10被設計為在虛擬環境Ev中投出投射物32，并包括由非磁性材料制成的結構11，投射臂12以可移動且運動受限的方式組裝到該結構，磁體15固定到所述投射臂12，所述方法由計算單元22實施，所述方法包括以下步驟：o提供用于在跟蹤區域ZS中定位所述投射器10的定位設備20，其包括：·固定到支撐表面Sa的磁力計陣列；·連接到所述磁力計陣列和圖形界面的所述計算單元22；·用于跟蹤所述投射器相對于磁力計陣列的預先限定的跟蹤區域Zs，以及與所述跟蹤區域相關聯的實際三維參考系Rr；o在所述計算單元22中存儲：·數字文件25，其在虛擬三維參考系Rv中編碼所述虛擬環境Ev，所述虛擬三維參考系Rv通過預先限定的映射關系F關聯到所述實際三維參考系Rr；·數字模型26，其使得能夠將表示所述投射臂在虛擬三維參考系Rv中的位置和或取向的所述投射臂12的狀態矢量Xb|v與表示所述磁體在實際三維參考系Rr中的位置和取向的所述磁體15的狀態矢量Xa|r相關聯，并使得能夠獲得所述投射器在虛擬三維參考系Rv中的數字表示31；o由使用者操作所述投射臂12，所述投射器位于跟蹤區域中并布置為與支撐表面接觸，所述投射臂能夠被使用者從靜止位置移開，復位部件則在所述投射臂上向所述靜止位置的方向施加復位力；o由所述磁力計陣列測量由所述磁體15在相繼的不同測量時刻tn生成的磁場；o在所述測量時刻tn，基于由所述磁體生成的磁場的測量值，確定所述磁體在實際三維參考系Rr中的狀態矢量Xa|r；o在所述測量時刻tn，基于預先存儲的所述數字模型26和所確定的狀態矢量Xa|r確定所述投射臂12在虛擬三維參考系Rv中的狀態矢量Xb|v，以及基于預先存儲的所述數字模型26和所確定的狀態矢量Xb|v確定所述投射物32的位置Pp|v；o根據在所述測量時刻tn和先前測量時刻的狀態矢量Xb|v限定的待命因子K1，識別所述投射臂12的待命階段A，在所述待命因子K1大于或等于預定閾值K1S時，識別到所述待命階段A；o當識別到所述待命階段A時，根據在所述測量時刻tn由狀態矢量Xb|v限定的投射因子K2，識別所述投射物32的發射，當所述投射因子K2大于或等于預定閾值K2S時，識別到所述投射物32的發射；o當識別到所述投射物32的發射時，確定在之后的測量時刻的所述投射物32在虛擬三維參考系Rv中的相繼位置Pp|v；o基于所述投射臂的所確定的狀態矢量Xb|v和所述投射物的所確定的位置Pp|v，構造在所述虛擬三維參考系Rv中表示所述虛擬環境Ev、所述投射器的數字表示31和所述投射物32的二維圖像，然后通過所述計算單元22控制圖形界面2，以顯示所構造的圖像。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人高級磁互作用公司(AMI)，其通訊地址為：法國塞西內-帕里塞；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。