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龍圖騰網恭喜北京宇航系統工程研究所申請的專利一種采用激光成型的壓差式阻隔結構及加工方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113919192B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111015217.6，技術領域涉及：G06F30/23；該發明授權一種采用激光成型的壓差式阻隔結構及加工方法是由王叢飛;滿滿;許光;鄭茂琦;張婷;葉超;薛立鵬;王洪銳設計研發完成，并于2021-08-31向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種采用激光成型的壓差式阻隔結構及加工方法在說明書摘要公布了：一種采用激光成型的壓差式阻隔結構，包含：膜片2、上擋圈3、下擋圈1；上擋圈3和下檔圈1均為環形結構，共同壓住膜片2的邊緣；膜片2為反拱型結構，在拱內側采用激光刻蝕加工十字型減弱槽；上擋圈3和下擋圈1與管路連接面設置密封槽，安裝密封結構。本發明具有加工精度高、產品尺寸可測性、打開壓力精確度高等特點，可應用于火箭動力系統的管路中，具有成品率高、產品一致性好等特點。

本發明授權一種采用激光成型的壓差式阻隔結構及加工方法在權利要求書中公布了：1.一種采用激光成型的壓差式阻隔結構，其特征在于，包含：膜片2、上擋圈3、下擋圈1；上擋圈3和下檔圈1均為環形結構，共同壓住膜片2的邊緣；膜片2為反拱型結構，在拱內側采用激光刻蝕加工十字型減弱槽；上擋圈3和下擋圈1與管路連接面設置密封槽，安裝密封結構；上擋圈3和下擋圈1與膜片2采用電子束焊接成為整體；膜片2的初始參數通過經驗公式計算得到，初試參數包括膜片2的厚度、起拱高度、刻痕剩余厚度；經驗公式如下：失穩壓力式中，K1為材料常數，A、B均為經驗參數；S0為膜片厚度，H為起拱高度，d為起拱直徑；通過有限元非線性穩定性分析進一步計算得到膜片參數，將材料非線性、刻痕剩余厚度、幾何初始缺陷作為膜片設計參數進行有限元分析；通過有限元仿真分析的多輪迭代，從分析結果中得到最優的膜片設計參數，以此膜片設計參數為最終膜片尺寸，進行壓差式阻隔結構的工藝試驗驗證。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京宇航系統工程研究所，其通訊地址為：100076 北京市豐臺區南大紅門路1號內35棟；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。