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龍圖騰網恭喜墨光新能科技(蘇州)有限公司申請的專利一種高透輻射制冷保護膜及其用途獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116904132B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310668280.2，技術領域涉及：C09J7/50；該發明授權一種高透輻射制冷保護膜及其用途是由宗麟奇;孔德興;呂彬設計研發完成，并于2023-06-07向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高透輻射制冷保護膜及其用途在說明書摘要公布了：本發明涉及一種高透輻射制冷保護膜，包括光譜調控層，所述光譜調控層包括交替層疊設置的低折射率材料和高折射率材料，高折射率材料不少于6層，低折射率材料不少于5層。該薄膜通過多層膜的結構設計實現了光譜調控，保證高可見光透光的前提下，有效隔絕太陽光波段其他能量的入射，并通過熱紅外波段將熱量以電磁波的形式發射到宇宙天然冷源中，以實現最大程度的輻射制冷效果。

本發明授權一種高透輻射制冷保護膜及其用途在權利要求書中公布了：1.一種高透輻射制冷保護膜，其特征在于：包括光譜調控層，所述光譜調控層包括交替層疊設置的低折射率材料和高折射率材料；所述高透輻射制冷保護膜還包括有機封裝層、基底膜和膠層，所述有機封裝層為疏水層，基底膜為鋼化膜，有機封裝層和輻射制冷層分別設置在基底膜兩側，膠層用于將所述輻射制冷保護膜貼合在電子屏幕上；所述輻射制冷層即為所述光譜調控層；所述光譜調控層的頂層和底層材料均為高折射率材料；每層高折射率材料相同或不同，選自TiO2、Ti3O5、Ti2O3、ZrO2、CeO2、HfO2中的一種或多種材料；每層低折射率材料相同或不同，選自SiO2、SiO、SiC、Al2O3、AlF3、MgF2中的一種或多種材料；所述低折射率材料和高折射率材料均為電子束蒸發鍍膜形成，鍍膜工藝滿足：鍍膜時材料的粒徑為1-20mm；所述光譜調控層的材料層厚度由玻璃基底向外包括依次設置為10-20nm、20-50nm、100-150nm、150-200nm、80-110nm、150-200nm、90-130nm、150-200nm、90-130nm、20-50nm、10-20nm；光線經所述光譜調控層后，可見光具有90%以上的透過率。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人墨光新能科技(蘇州)有限公司，其通訊地址為：215151 江蘇省蘇州市高新區長亭路8號2幢313-6室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。