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龍圖騰網恭喜上海朋熙半導體有限公司申請的專利半導體工藝配方參數的調整方法、系統、設備及介質獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119167797B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-09發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202411648503.X，技術領域涉及：G06F30/27；該發(fā)明授權半導體工藝配方參數的調整方法、系統、設備及介質是由劉源;闕士芯設計研發(fā)完成，并于2024-11-19向國家知識產權局提交的專利申請。

本半導體工藝配方參數的調整方法、系統、設備及介質在說明書摘要公布了：本申請實施例涉及半導體技術領域，公開了一種半導體工藝配方參數的調整方法、系統、設備及介質，所述方法包括：利用包含一批或多批半導體工藝配方參數和對應產品良率的數據集訓練多元回歸模型；將待調整配方中的固定參數代入所述多元回歸模型，以基于目標良率獲取待調整配方中的待調整參數的數值或數值區(qū)間。通過本申請的方案，可以至少解決現有技術參數調整依賴于工程師的經驗等，耗時耗力且決策的主觀性和不一致性的技術問題。本申請能夠預測關鍵工藝參數與良率的關系，給工程師做出智能推薦，提高生產效率。

本發(fā)明授權半導體工藝配方參數的調整方法、系統、設備及介質在權利要求書中公布了：1.一種半導體工藝配方參數的調整方法，其特征在于，包括：利用包含一批或多批半導體工藝配方參數和對應產品良率的數據集訓練多元回歸模型；其中包括：在制造過程中記錄每批晶圓使用的工藝配方參數；對每批次中的部分晶圓進行抽樣檢測，所述檢測包括CD量測；將檢測結果與對應的工藝配方參數進行關聯存儲，以得到歷史數據，所述歷史數據包括工藝配方名稱、晶圓所屬的產品號、工藝配方參數的數值和或晶圓CD量測的合格狀態(tài)；基于歷史數據構建數據集，以對多元回歸模型進行訓練；將待調整配方中的固定參數代入所述多元回歸模型，以基于目標良率獲取待調整配方中的待調整參數的數值或數值區(qū)間，包括：獲取參數調整指令；響應于參數調整指令對待調整配方中的參數進行劃分，以得到固定參數和待調整參數；將固定參數的數值作為自變量代入所述多元回歸模型，以得到一元回歸模型；將設定的目標良率作為因變量代入所述一元回歸模型，以對待調整參數的自變量進行求解；基于求解的結果獲取待調整參數的數值或數值區(qū)間；呈現所述一元回歸模型的曲線圖；基于設定步長呈現所述曲線圖的數值表格。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海朋熙半導體有限公司，其通訊地址為：201208 上海市浦東新區(qū)涵橋路619號金鼎天地C棟15-17樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。