買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網恭喜吾拾微電子(蘇州)有限公司申請的專利吸附裝置及晶圓處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119252790B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411767740.8，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權吸附裝置及晶圓處理方法是由沈達;方耀星;薛亞玲;萬士元設計研發完成，并于2024-12-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本吸附裝置及晶圓處理方法在說明書摘要公布了：本發明公開一種吸附裝置及晶圓處理方法，屬于晶圓處理技術領域。吸附裝置包括吸附主體；通道機構，包括第一通道組件和圍繞第一通道組件設置的第二通道組件；填充機構，包括填充于部分第二通道組件內的第一填充件，以使部分第二通道組件內無流體通過；填充有第一填充件的第二通道組件形成第一填充區域，剩余部分第二通道組件和第一通道組件形成吸附區域，晶圓正投影與第一填充區域存在重合；抽真空時，第一填充件使得流經吸附區域與晶圓之間的第一氣流的流速大于流經第一填充區域與晶圓之間的第二氣流的流速。通過上述方式，能夠保證吸附主體在撤真空后與晶圓之間仍可維持一段時間的吸附，從而進而避免后續工藝進行發生滑落，磕碰等問題。

本發明授權吸附裝置及晶圓處理方法在權利要求書中公布了：1.一種吸附裝置，其特征在于，包括：吸附主體，適于供晶圓放置，并在真空發生器的作用下抽真空以將所述晶圓吸附；通道機構，適于供流體流經，且形成于所述吸附主體上；所述通道機構包括若干個微米級孔道，若干個微米級孔道沿所述吸附裝置的高度方向延伸；所述若干個微米級孔道包括第一通道組件和第二通道組件，所述第二通道組件圍繞所述第一通道組件設置；填充機構，包括填充于至少部分所述第二通道組件內的第一填充件，以使至少部分所述第二通道組件內無流體通過；填充有所述第一填充件的所述第二通道組件形成第一填充區域，剩余部分所述第二通道組件和所述第一通道組件形成吸附區域，所述晶圓的正投影與所述第一填充區域存在重合；所述第一填充件具有第一狀態和第二狀態，所述第一狀態的硬度小于第二狀態的硬度；所述第一填充件以第一狀態呈現時，其能夠沿微孔的延伸方向流動，且可填充于第二通道組件內；第一填充件以第二狀態呈現時，其固定于第二通道組件內，于吸附主體的高度方向上，第一填充件的頂端與吸附主體的上表面齊平；所述填充機構還包括填充于部分所述第一通道組件內的第二填充件，填充有所述第二填充件的部分所述第一通道使得所述吸附區域被分割為吸合區域和第二填充區域；其中，所述第一填充件和第二填充件為樹脂；其中，所述吸附主體抽真空時，所述第一填充件使得流經所述吸附區域與所述晶圓之間的第一氣流的流速大于流經所述第一填充區域與所述晶圓之間的第二氣流的流速；所述第二填充件使得流經所述吸合區域與所述晶圓之間的第三氣流的流速大于流經所述第二填充區域與所述晶圓之間的第四氣流的流速。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人吾拾微電子(蘇州)有限公司，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市蘇州工業園區蘇虹西路181號I幢；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。