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龍圖騰網恭喜成都上泰科技有限公司申請的專利一種耐磨抗沖擊超疏水聚脲復合涂層及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119736006B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510245713.2，技術領域涉及：C09D175/02；該發明授權一種耐磨抗沖擊超疏水聚脲復合涂層及其制備方法是由宋健為;宋大余;王焱設計研發完成，并于2025-03-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種耐磨抗沖擊超疏水聚脲復合涂層及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種耐磨抗沖擊超疏水聚脲復合涂層及其制備方法，屬于復合涂層材料技術領域。其通過制備低表面能聚脲和改性二氧化硅，并將兩者復合，其中，低表面能聚脲的分子結構中，僅部分分子鏈中含有端羥基含氟聚硅氧烷的基團，通過其制備方法，PDSF基團靠近中心核。所制備的聚脲復合涂層在滿足超疏水性能的條件下，具有極高的耐磨和抗沖擊性能。

本發明授權一種耐磨抗沖擊超疏水聚脲復合涂層及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種耐磨抗沖擊超疏水聚脲復合涂層，該復合涂層由低表面能聚脲和改性二氧化硅納米顆粒復合制成，其特征在于，所述低表面能聚脲由聚四氫呋喃二醇、苯-1,2,4,5-四醇、二甲基硅烷二醇、端羥基含氟聚硅氧烷、二苯基甲烷二異氰酸酯和多元胺擴鏈劑反應制備；所述改性二氧化硅納米顆粒由氟硅烷偶聯劑改性二氧化硅而制備；所述低表面能聚脲的分子結構以苯-1,2,4,5-四醇為中心核，與中心核相連的各分子鏈中，僅部分分子鏈中含有端羥基含氟聚硅氧烷的基團；其中，在低表面能聚脲的制備過程中，先將苯-1,2,4,5-四醇和端羥基含氟聚硅氧烷混合，然后加入二苯基甲烷二異氰酸酯進行初聚制備初聚物，然后再加入聚四氫呋喃二醇和二甲基硅烷二醇，之后再加入二苯基甲烷二異氰酸酯進行反應得預聚物，之后再加入多元胺擴鏈劑得低表面能聚脲；通過初聚和預聚分步進行，使得在含有端羥基含氟聚硅氧烷基團的分子鏈上，所述端羥基含氟聚硅氧烷基團相較于二甲基硅烷二醇的基團和聚四氫呋喃二醇的基團更靠近所述中心核；并且其中，以重量份計，改性二氧化硅納米顆粒低表面能聚脲=6%～14%。

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