恭喜華為技術有限公司馮寒予獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜華為技術有限公司申請的專利一種圖像處理方法和電子設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112116624B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201910544448.2,技術領域涉及:G06T7/194;該發明授權一種圖像處理方法和電子設備是由馮寒予;朱聰超設計研發完成,并于2019-06-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種圖像處理方法和電子設備在說明書摘要公布了:一種圖像處理方法和電子設備,通過對用于分割前景和后景的掩膜圖像執行腐蝕、膨脹、平滑等處理得到的掩膜圖像再對前景和背景進行分割,從而可以消除分割處理后的圖像前景部分邊緣存在的毛刺和鋸齒。另外,還可以根據基于平滑處理后的掩膜圖像確定融合權重,對分割處理后的前景和背景融合,使得融合后的前景和背景過渡自然。
本發明授權一種圖像處理方法和電子設備在權利要求書中公布了:1.一種圖像處理方法,其特征在于,應用于電子設備,所述方法包括:獲取用于對待處理圖像的前景和背景進行分割的第一掩膜圖像,所述第一掩膜圖像為二值掩膜圖像,所述待處理圖像為通過相機拍照或錄制得到的,或者所述待處理圖像為圖庫中的圖像,或者,所述待處理圖像為修圖軟件中的待處理圖像;對所述第一掩膜圖像進行腐蝕和或膨脹處理后得到第三掩膜圖像;對所述第三掩膜圖像進行平滑處理,根據第一閾值對所述平滑處理后得到的掩膜圖像進行二值化處理得到第二掩膜圖像;基于所述第二掩膜圖像對所述待處理圖像的前景和背景進行分割得到所述待處理圖像的第一前景圖像和第一背景圖像;對所述第一前景圖像和或所述第一背景圖像進行符合用戶需求的個性化處理得到第二前景圖像和第二背景圖像,并根據對所述第二掩膜圖像進行平滑處理后得到的掩膜圖像確定融合權重,根據所述融合權重對所述第二前景圖像和第二背景圖像進行融合處理。
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