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龍圖騰網(wǎng)恭喜DH科技發(fā)展私人貿(mào)易有限公司申請的專利質(zhì)量分析器的質(zhì)量校準(zhǔn)設(shè)備及相應(yīng)的方法和程序產(chǎn)品獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113632198B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080025411.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J49/00；該發(fā)明授權(quán)質(zhì)量分析器的質(zhì)量校準(zhǔn)設(shè)備及相應(yīng)的方法和程序產(chǎn)品是由R·E·霍夫勒;W·M·洛德;馬場崇設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-06-10向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本質(zhì)量分析器的質(zhì)量校準(zhǔn)設(shè)備及相應(yīng)的方法和程序產(chǎn)品在說明書摘要公布了：一種用于質(zhì)量分析器的校準(zhǔn)設(shè)備，包括離子源裝置和兩用電子束產(chǎn)生單元。離子源裝置電離樣本的分析物，產(chǎn)生分析物離子。兩用電子束產(chǎn)生單元位于離子源裝置與質(zhì)量分析器之間。在第一模式中，兩用電子束產(chǎn)生單元用于產(chǎn)生未知質(zhì)荷比的分析物離子的碎裂。在第二模式中，兩用電子束產(chǎn)生單元用于產(chǎn)生已知質(zhì)荷比的校準(zhǔn)化合物的離子。所有離子隨后被轉(zhuǎn)移到質(zhì)量分析器。

本發(fā)明授權(quán)質(zhì)量分析器的質(zhì)量校準(zhǔn)設(shè)備及相應(yīng)的方法和程序產(chǎn)品在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于質(zhì)量分析器的質(zhì)量校準(zhǔn)設(shè)備，包括：質(zhì)譜儀的離子源裝置，用于電離樣品的分析物、產(chǎn)生分析物離子；以及質(zhì)譜儀的兩用電子束產(chǎn)生單元，位于質(zhì)譜儀的離子源裝置與質(zhì)量分析器之間，其中兩用電子束產(chǎn)生單元是基于電子的解離ExD池，在第一模式中，當(dāng)質(zhì)譜儀處于質(zhì)譜MS模式時(shí)，將分析物離子直接地或通過質(zhì)譜儀的一個(gè)或多個(gè)其它單元傳輸?shù)劫|(zhì)量分析器以用于質(zhì)量分析，或者當(dāng)質(zhì)譜儀處于質(zhì)譜質(zhì)譜MSMS模式時(shí)，將分析物離子碎裂成產(chǎn)物離子并將產(chǎn)物離子直接地或通過所述一個(gè)或多個(gè)其它單元傳輸?shù)劫|(zhì)量分析器以用于質(zhì)量分析，或者將分析物離子傳輸?shù)劫|(zhì)譜儀的碰撞池以用于碎裂，進(jìn)而將所得產(chǎn)物離子傳輸?shù)劫|(zhì)量分析器以用于質(zhì)量分析，以及，在第二模式中，產(chǎn)生校準(zhǔn)化合物的離子，并將校準(zhǔn)離子直接地或通過所述一個(gè)或多個(gè)其它單元傳送到質(zhì)量分析器以用于質(zhì)量分析。

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