恭喜福建省晉華集成電路有限公司吳維維獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜福建省晉華集成電路有限公司申請的專利掩膜版、其圖形修正方法、存儲介質及器件制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112731756B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110070645.2，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權掩膜版、其圖形修正方法、存儲介質及器件制備方法是由吳維維;謝翔宇設計研發完成，并于2021-01-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本掩膜版、其圖形修正方法、存儲介質及器件制備方法在說明書摘要公布了：本公開提供一種掩膜版、其圖形修正方法、存儲介質及器件制備方法，該掩膜版包括至少一個沿預設方向的傾斜階梯狀圖案；其中，所述傾斜階梯狀圖案包括分別位于所述傾斜階梯狀圖案沿所述預設方向的兩側的第一階梯狀輪廓和第二階梯狀輪廓；所述第一階梯狀輪廓包括多個第一直角拐點，所述第二階梯狀輪廓包括多個第二直角拐點；所述傾斜階梯狀圖案中，所述第一直角拐點和所述第二直角拐點交錯設置。這種掩膜版的圖案線寬易于控制，不僅可以提高光學鄰近修正的一致性，而且可提高掩膜工藝的均一性和芯片圖案的均一性。
本發明授權掩膜版、其圖形修正方法、存儲介質及器件制備方法在權利要求書中公布了：1.一種掩膜版，其特征在于，包括至少一個沿第一預設方向的傾斜階梯狀圖案；其中，所述傾斜階梯狀圖案包括分別位于所述傾斜階梯狀圖案沿所述第一預設方向的兩側的第一階梯狀輪廓和第二階梯狀輪廓；所述第一階梯狀輪廓包括多個第一直角拐點，所述第二階梯狀輪廓包括多個第二直角拐點；所述傾斜階梯狀圖案中，所述第一直角拐點和所述第二直角拐點在垂直方向上交錯設置；所述傾斜階梯狀圖案中，任意兩個偶數位或任意兩個奇數位的所述第一直角拐點之間的連線的延伸方向與所述第一預設方向相同；所述傾斜階梯狀圖案中，任意兩個偶數位或任意兩個奇數位的所述第二直角拐點之間的連線的延伸方向與所述第一預設方向相同；所述掩膜版中，所述傾斜階梯狀圖案的數量為多個，且各個所述傾斜階梯狀圖案彼此間隔且平行；相鄰兩個所述傾斜階梯狀圖案的所述第一階梯狀輪廓交錯設置。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建省晉華集成電路有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市集成電路科學園聯華大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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