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本一種梯度結(jié)構(gòu)的晶圓的蝕刻方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種梯度結(jié)構(gòu)的晶圓的蝕刻方法，涉及到半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，包括：S1、控制晶圓旋轉(zhuǎn)，通過(guò)第一噴頭將酸蝕刻液噴在晶圓的上表面，并驅(qū)動(dòng)第一噴頭呈弧形往復(fù)擺動(dòng)，同時(shí)向晶圓的上表面中心位置以及邊緣區(qū)域噴射熱氣流；S2、通過(guò)第二噴頭將酸蝕刻液噴在水平臺(tái)階面，并控制第二噴頭沿晶圓的邊緣方向往復(fù)擺動(dòng)；S3、通過(guò)第三噴頭將酸蝕刻液傾斜噴射在豎直臺(tái)階面上。本發(fā)明中，在晶圓進(jìn)行蝕刻時(shí)向晶圓的表面以及邊緣位置通入熱氣流，實(shí)現(xiàn)加溫動(dòng)作，且通過(guò)第一噴頭、第二噴頭的擺動(dòng)以及第三噴頭的傾斜角度，能夠使得酸蝕刻液充分的覆蓋在晶圓的表面以及臺(tái)階面上，能夠提高蝕刻效果。

本發(fā)明授權(quán)一種梯度結(jié)構(gòu)的晶圓的蝕刻方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種梯度結(jié)構(gòu)的晶圓的蝕刻方法，所述晶圓的上表面的邊緣具有臺(tái)階面，所述臺(tái)階面包括相互連接的水平臺(tái)階面和豎直臺(tái)階面，其特征在于，包括：S1、控制所述晶圓旋轉(zhuǎn)，通過(guò)第一噴頭將酸蝕刻液噴在所述晶圓的上表面，并驅(qū)動(dòng)所述第一噴頭呈弧形往復(fù)擺動(dòng)，同時(shí)向所述晶圓的上表面中心位置以及邊緣區(qū)域噴射熱氣流；S2、通過(guò)第二噴頭將酸蝕刻液噴在所述水平臺(tái)階面，并控制所述第二噴頭沿所述晶圓的邊緣方向往復(fù)擺動(dòng)；所述第二噴頭的軸線(xiàn)與所述水平臺(tái)階面垂直；S3、通過(guò)第三噴頭將酸蝕刻液傾斜噴射在所述豎直臺(tái)階面上；所述第三噴頭的軸線(xiàn)指向所述水平臺(tái)階面與所述豎直臺(tái)階面之間的夾角處。

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