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龍圖騰網恭喜中國科學院化學研究所申請的專利一種可光固化硅基陶瓷前驅體及其制備方法與應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116947489B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210412732.6，技術領域涉及：C08G77/00；該發明授權一種可光固化硅基陶瓷前驅體及其制備方法與應用是由李永明;潘振雪;徐彩虹;張宗波;羅永明設計研發完成，并于2022-04-19向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種可光固化硅基陶瓷前驅體及其制備方法與應用在說明書摘要公布了：本發明屬于光固化材料、硅基陶瓷前驅體及硅基陶瓷技術領域，具體涉及一種可光固化硅基陶瓷前驅體及其制備方法與應用。本發明提供的可光固化硅基陶瓷前驅體能夠作為硅基陶瓷前驅體樹脂，且固化物的陶瓷化產率高，在制備樹脂薄膜涂層、有機無機雜化材料薄膜涂層、陶瓷薄膜涂層、陶瓷纖維、陶瓷基復合材料、3D打印制備陶瓷制件等領域顯示出巨大應用前景。

本發明授權一種可光固化硅基陶瓷前驅體及其制備方法與應用在權利要求書中公布了：1.一種可光固化硅基陶瓷前驅體，其特征在于，具有如式M所示的鏈段結構： 式M；其中，所述R，R’相同或不同，彼此獨立地選自H、無取代，或任選被一個，兩個或多個Ra取代的如下基團：C1-6烷基或C1-6烷氧基；Ra選自羥基，鹵素，氨基或C1-6烷基；Y相同或不同，彼此獨立地選自無取代，或任選被一個，兩個或多個Rb取代的如下基團：C2-6烯基或C2-6炔基；Rb選自羥基，鹵素，氨基或C1-6烷基；X相同或不同，彼此獨立地選自光敏反應基團Rg，所述光敏反應基團Rg為在光照和光引發劑存在的條件下，發生聚合反應的基團；所述光敏反應基團Rg為丙烯酸酯基、乙烯基醚基或環氧基；所述丙烯酸酯基選自-A-OOC-CR1=CH2，其中，A選自不存在或-OCH2a-，當A不存在時，-OOC-CR1=CH2的-OOC-中O與Si相連，當存在時，-OCH2a-中O與Si相連，a為1-6的整數，R1選自H、C1-6烷基；所述乙烯基醚基選自式（2）所示基團：-O-CH2m1-O-CH2m2-CR2=CHR3式（2）其中，m1為1-6的整數，m2為0-6的整數，R2選自H、甲基或乙基，R3選自H或C1-6烷基；所述環氧基選自-OCH2n1-R4，其中，n1為1-6的整數，R4選自取代或未取代的C2-12環氧烷基、取代或未取代的環氧C3-12環烷基，取代時取代基為C1-6烷基；x=0.01~0.9，y=0.1~0.9，z=0.1~0.9，x+y+z=0.01~0.9。

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