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龍圖騰網恭喜中國科學院光電技術研究所申請的專利超分辨光刻結構、制備方法及圖形傳遞的方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115472492B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202211147820.4，技術領域涉及：H01L21/033；該發(fā)明授權超分辨光刻結構、制備方法及圖形傳遞的方法是由羅先剛;谷雨;羅云飛;劉凱鵬;牟帥;趙澤宇設計研發(fā)完成，并于2022-09-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本超分辨光刻結構、制備方法及圖形傳遞的方法在說明書摘要公布了：本公開提供了一種超分辨光刻結構、制備方法及圖形傳遞的方法，該制備方法包括：S1，在襯底1上形成介質層2；S2，在介質層2上沉積氧化石墨烯層；S3，對氧化石墨烯層進行烘烤退火，形成還原氧化石墨烯薄膜層3，還原氧化石墨烯薄膜層3作為第一硬掩模層；S4，在還原氧化石墨烯薄膜層3上涂覆含Si抗反射涂層4，含Si抗反射涂層4作為第二硬掩模層；S5，在含Si抗反射涂層4上依次沉積金屬層5、涂覆感光層6，得到超分辨光刻結構。本公開的方法提高了還原氧化石墨烯薄膜層與介質層之間的刻蝕選擇比，避免了超分辨光刻圖形傳遞中因縱橫比過高導致的圖形坍塌、變形等問題。

本發(fā)明授權超分辨光刻結構、制備方法及圖形傳遞的方法在權利要求書中公布了：1.一種超分辨光刻結構的制備方法，其特征在于，包括：S1，在襯底（1）上形成介質層（2）；S2，在所述介質層（2）上沉積氧化石墨烯層；所述S2包括：S21，將氧化石墨烯粉末和溶劑混合，形成氧化石墨烯分散液；S22，將所述氧化石墨烯分散液滴加在所述介質層（2）上，低速旋轉使所述氧化石墨烯分散液均勻鋪展；S23，高速旋轉使所述溶劑蒸發(fā)，形成氧化石墨烯層；S3，對所述氧化石墨烯層進行烘烤退火，形成還原氧化石墨烯薄膜層（3），所述還原氧化石墨烯薄膜層（3）作為第一硬掩模層；其中，形成所述還原氧化石墨烯薄膜層（3）的厚度為1～50nm；S4，在所述還原氧化石墨烯薄膜層（3）上涂覆含Si抗反射涂層（4），所述含Si抗反射涂層（4）作為第二硬掩模層；S5，在所述含Si抗反射涂層（4）上依次沉積金屬層（5）、涂覆感光層（6），得到超分辨光刻結構。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院光電技術研究所，其通訊地址為：610209 四川省成都市雙流350信箱；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。