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龍圖騰網(wǎng)恭喜南京芯干線科技有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利一種集成GaN的IGBT器件制備方法及IGBT器件獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN117198876B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202311392906.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D12/01；該發(fā)明授權(quán)一種集成GaN的IGBT器件制備方法及IGBT器件是由李進(jìn)吉;傅玥;孔令濤設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-10-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種集成GaN的IGBT器件制備方法及IGBT器件在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明涉及一種集成GaN的IGBT器件制備方法及IGBT器件，包括：制作IGBT的正面結(jié)構(gòu)，對(duì)硅晶圓的正面進(jìn)行溝槽刻蝕，形成第一溝槽；在第一溝槽內(nèi)生長(zhǎng)柵極氧化層；在第一溝槽內(nèi)進(jìn)行多晶硅柵填充，形成gate電極；在第一溝槽的外側(cè)進(jìn)行離子注入，形成N型重?fù)诫s區(qū)和形成P型體區(qū)；在硅晶圓上進(jìn)行正面ILD氧化層生長(zhǎng)，正面金屬沉積并覆蓋其表面，形成第二金屬層，即發(fā)射極；將硅晶圓反轉(zhuǎn)，在硅晶圓背面進(jìn)行離子注入，形成P型集電極區(qū)，形成IGBT結(jié)構(gòu)；在反轉(zhuǎn)的硅晶圓表面生長(zhǎng)GaN層和AlGaN層，形成AlGaNGaN界面；進(jìn)行背面金屬沉積，形成第一金屬層，即集電極。本發(fā)明使得IGBT器件使用中無(wú)需在外部電路中封裝續(xù)流二極管，避免引入額外的寄生電感和寄生電阻，減少了封裝面積。

本發(fā)明授權(quán)一種集成GaN的IGBT器件制備方法及IGBT器件在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種集成GaN的IGBT器件制備方法，其特征在于：包括：步驟S1,制作IGBT的正面結(jié)構(gòu)，對(duì)硅晶圓的正面進(jìn)行溝槽刻蝕，形成第一溝槽2；步驟S2,在第一溝槽內(nèi)生長(zhǎng)柵極氧化層；步驟S3，所述柵極氧化層形成后，在第一溝槽內(nèi)位于柵極氧化層的內(nèi)側(cè)進(jìn)行多晶硅柵填充，形成gate電極，并且所述多晶硅珊的表面與所述硅晶圓的表面平齊；步驟S4，沿著第一溝槽的邊界在所述第一溝槽的外側(cè)進(jìn)行摻雜離子注入，形成N型重?fù)诫s區(qū)；所述N型重?fù)诫s區(qū)形成之后再進(jìn)行離子注入，形成P型體區(qū)；步驟S5,在硅晶圓上進(jìn)行正面ILD氧化層生長(zhǎng)，然后在ILD氧化層的正面金屬沉積并覆蓋其表面，形成第二金屬層，即發(fā)射極；步驟S6,將硅晶圓反轉(zhuǎn)，在硅晶圓背面進(jìn)行離子注入，形成P型集電極區(qū)，形成IGBT結(jié)構(gòu)；步驟S7,在反轉(zhuǎn)的硅晶圓表面且位于所述P型集電極區(qū)的內(nèi)側(cè)生長(zhǎng)GaN層和AlGaN層，形成AlGaNGaN界面，所述GaN層和AlGaN層的接觸界面位于豎直方向，所述P型集電極區(qū)與GaN層和AlGaN層接觸；步驟S8，進(jìn)行背面金屬沉積，形成第一金屬層，即集電極。

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