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龍圖騰網(wǎng)恭喜寧波大學(xué)申請(qǐng)的專利一種基于對(duì)抗性示例增廣的高可轉(zhuǎn)移性黑盒攻擊方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119323025B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-02發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411864211.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F21/55；該發(fā)明授權(quán)一種基于對(duì)抗性示例增廣的高可轉(zhuǎn)移性黑盒攻擊方法是由姜求平;朱雪彪設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-12-18向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種基于對(duì)抗性示例增廣的高可轉(zhuǎn)移性黑盒攻擊方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種基于對(duì)抗性示例增廣的高可轉(zhuǎn)移性黑盒攻擊方法，包括：步驟S1，獲取原圖像和原圖像的偽標(biāo)簽；步驟S2，搭建深層特征提取器；步驟S3，生成對(duì)抗性示例；步驟S4，將對(duì)抗性示例輸入至代理模型內(nèi)得到預(yù)測(cè)結(jié)果；步驟S5，計(jì)算預(yù)測(cè)結(jié)果和偽標(biāo)簽之間的結(jié)構(gòu)相似度并篩選對(duì)抗性示例；步驟S6，將對(duì)抗性示例輸入到深層特征提取器中得到兩個(gè)深層特征；步驟S7，計(jì)算兩個(gè)深層特征之間的KL散度，擴(kuò)大預(yù)測(cè)結(jié)果和偽標(biāo)簽之間的差異并篩選對(duì)抗性示例；步驟S8，整合得到對(duì)抗性示例集對(duì)目標(biāo)模型進(jìn)行查詢得到最優(yōu)對(duì)抗性示例。有益效果是本發(fā)明能夠生成具有高可轉(zhuǎn)移性的對(duì)抗性示例集，提升攻擊效果。

本發(fā)明授權(quán)一種基于對(duì)抗性示例增廣的高可轉(zhuǎn)移性黑盒攻擊方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于對(duì)抗性示例增廣的高可轉(zhuǎn)移性黑盒攻擊方法，其特征在于，包括以下步驟：步驟S1，獲取任意一張圖片作為原圖像，并調(diào)用一個(gè)圖像二類分割模型作為代理模型，將所述原圖像輸入至所述代理模型內(nèi)得到所述原圖像的偽標(biāo)簽；步驟S2，搭建深層特征提取器；步驟S3，基于所述原圖像創(chuàng)建加性擾動(dòng)和乘性擾動(dòng)，并根據(jù)所述原圖像、所述加性擾動(dòng)和所述乘性擾動(dòng)得到對(duì)抗性示例；步驟S4，將所述對(duì)抗性示例輸入至所述代理模型內(nèi)得到預(yù)測(cè)結(jié)果，并利用二值交叉熵?fù)p失函數(shù)計(jì)算所述預(yù)測(cè)結(jié)果和所述偽標(biāo)簽之間的損失，以及利用無窮范數(shù)計(jì)算所述原圖像與所述對(duì)抗性示例之間的差異；步驟S5，反向傳播優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)，更新所述加性擾動(dòng)與所述乘性擾動(dòng)，并計(jì)算所述預(yù)測(cè)結(jié)果和所述偽標(biāo)簽之間的結(jié)構(gòu)相似度，以及在所述結(jié)構(gòu)相似度低于預(yù)設(shè)閾值時(shí)將對(duì)應(yīng)的所述對(duì)抗性示例存儲(chǔ)為對(duì)抗性示例，其中，表示預(yù)設(shè)參數(shù)；步驟S6，重復(fù)執(zhí)行所述步驟S3、所述步驟S4和所述步驟S5，將每次重復(fù)執(zhí)行后得到的所述對(duì)抗性示例作為新的對(duì)抗性示例，將所述對(duì)抗性示例輸入到所述深層特征提取器中得到深層特征，并將已生成的各所述對(duì)抗性示例輸入到所述深層特征提取器中得到深層特征，其中；步驟S7，計(jì)算所述深層特征與所述深層特征之間的KL散度，并基于所述KL散度構(gòu)建得到目標(biāo)函數(shù)，以及優(yōu)化總體目標(biāo)函數(shù)來擴(kuò)大所述對(duì)抗性示例對(duì)應(yīng)的所述預(yù)測(cè)結(jié)果和所述偽標(biāo)簽之間的差異，當(dāng)所述預(yù)測(cè)結(jié)果和所述偽標(biāo)簽之間的結(jié)構(gòu)相似度低于所述預(yù)設(shè)閾值且小于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，保留對(duì)應(yīng)的所述對(duì)抗性示例，其中表示預(yù)設(shè)距離值，表示預(yù)設(shè)參數(shù)；步驟S8，重復(fù)執(zhí)行所述步驟S6和所述步驟S7，將每次重復(fù)執(zhí)行后保留的所述對(duì)抗性示例整合為對(duì)抗性示例集，利用所述對(duì)抗性示例集中的各所述對(duì)抗性示例對(duì)目標(biāo)模型進(jìn)行查詢得到對(duì)應(yīng)的目標(biāo)預(yù)測(cè)結(jié)果和目標(biāo)偽標(biāo)簽，將所述目標(biāo)預(yù)測(cè)結(jié)果與所述目標(biāo)偽標(biāo)簽差異最大的所述對(duì)抗性示例作為最優(yōu)對(duì)抗性示例。

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