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龍圖騰網恭喜中芯集成電路(寧波)有限公司上海分公司申請的專利指紋識別模組及其制造方法、電子設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112115755B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911013297.4，技術領域涉及：G06V40/13；該發明授權指紋識別模組及其制造方法、電子設備是由石虎;劉孟彬設計研發完成，并于2019-10-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本指紋識別模組及其制造方法、電子設備在說明書摘要公布了：一種指紋識別模組及其制造方法、電子設備，制造方法包括：提供襯底，襯底中形成有信號處理電路；在襯底上形成第一氧化層；提供承載基底；在承載基底上形成壓電換能器，壓電換能器包括第一電極、位于第一電極上的壓電層、以及位于壓電層上的第二電極；在壓電換能器上形成具有空腔的第二氧化層，空腔至少露出第二電極；通過第二氧化層和第一氧化層，采用熔融鍵合工藝實現承載基底和襯底的鍵合；去除承載基底。所述方法無需形成用于占據空腔位置的犧牲層，相應無需進行犧牲層釋放的操作，以免出現在空腔中形成犧牲層殘留物的問題，且通過熔融鍵合工藝使承載基底和襯底實現鍵合，提高了鍵合可靠性；綜上，提高了指紋識別模組的指紋識別性能。

本發明授權指紋識別模組及其制造方法、電子設備在權利要求書中公布了：1.一種指紋識別模組的制造方法，其特征在于，包括：提供襯底，所述襯底中形成有信號處理電路；在所述襯底上形成第一氧化層；提供承載基底；在所述承載基底上形成壓電換能器，所述壓電換能器包括第一電極、位于所述第一電極上的壓電層、以及位于所述壓電層上的第二電極；在所述壓電換能器上形成具有空腔的第二氧化層，所述空腔至少露出所述第二電極；通過所述第二氧化層和所述第一氧化層，采用熔融鍵合工藝實現所述承載基底和所述襯底的鍵合；去除所述承載基底；在形成所述壓電換能器的步驟中，所述壓電層還覆蓋所述第一電極的側壁；在形成所述第二氧化層之前，還包括：在所述壓電層中形成第三導電孔；在進行鍵合的步驟中，使所述第三導電孔和所述信號處理電路的相應連接端相對應；或者，在形成所述壓電換能器的步驟中，形成覆蓋所述承載基底的整層導電層，部分區域的所述導電層作為第一電極；在去除所述承載基底后，還包括：圖形化所述導電層，得到所述第一電極，所述第一電極暴露部分的所述壓電層。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯集成電路(寧波)有限公司上海分公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國(上海)自由貿易試驗區蔡倫路85弄95號1幢3樓C區309；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。